Hệ thống lắng đọng lớp nguyên tử bột ALD

Mẫu số: AT-200MPlus（PlasmaTăng cường+Lớp nguyên tử nhiệt lắng đọng）

Thông số kỹ thuật:

·Kích thước (L * W * H): 35,5 * 38,1 * 56,8cm

·Sơn tĩnh điện tùy chọn (công suất lên đến 10cm ^ 3)

·Các mẫu có thể được đặt 2 inch × 2 inch × 3 inch hoặc hai đĩa 2 inch (mâm cặp tùy chỉnh và tùy chọn sơn tĩnh điện của chúng tôi)

·3 cổng phía trước (1 MFC, 2 xe tăng),6 cổng tùy chọn(Tối đa 2 MFC, 4 bể) với đường dẫn nhiệt lên đến 150 ℃ (HT Kit đến 180 ℃)

·Plasma với cathode rỗng (13.56RF, 80W)

·Nhà ở ổ đĩa phía trước thông gió

·Xung nhanh ALD chịu nhiệt độ caovan,Được trang bị MFC siêu nhanh để quét khí trơ tích hợp - Tiêu chuẩn

·buồng thép không gỉ đầy đủ,Phạm vi nhiệt độ lên đến 300 ℃

·Độ phủ sóng cao có thể đạt được ở chế độ phản ứng tĩnh

·Màn hình hiển thị 5 inch với điều khiển PLC tích hợp

·Bao gồm nâng cấp phần mềm trọn đời

·1 年保Sửa chữa

Tùy chọn: bơm chân không, 4 cổng, máy phát ozone (AT-03), máy sưởi chai, QCM, Điều khiển PC từ xa, Bộ điều khiển ALD, Hộp đựng găng tay, Bộ HT (Bộ điều khiển phía trước đến 180 ° C), Máy tạo bọt, Máy phun bột, Chuck sưởi ấm (đến 450 ° C)

Tính năng thiết bị:

1.Desktop ALD lớp nguyên tử lắng đọng, dấu chân nhỏ;

2. Loại nhiệt và có thể nâng cấp Plasma Enhancement；

3. Chức năng bọc bột có thể được tùy chọn, đặc biệt thích hợp cho khách hàng trong lĩnh vực nghiên cứu pin;

Kích thước đủ lớn để vận hành trực tiếp trong hộp găng tay, đặc biệt phù hợp với khách hàng trong lĩnh vực nghiên cứu pin;

5. Cài đặt hoạt động cực kỳ đơn giản, thuận tiện cho các thí nghiệm hoạt động của các nhân viên khác nhau trong phòng thí nghiệm.

Lĩnh vực ứng dụng:

Đặc biệt đề nghị các ứng dụng trong lĩnh vực năng lượng

1. Ứng dụng trong lĩnh vực pin lithium-ion

Trầm tích lớp nguyên tử(ALD) có những lợi thế to lớn và triển vọng ứng dụng trong việc bọc màng nano của cấu trúc nano do sự lắng đọng đồng hình và các tính năng kiểm soát độ dày màng đơn giản và chính xác. Nhiều nghiên cứu đã chỉ ra rằng việc sử dụng ALD để bọc màng nano cho vật liệu điện cực có thể thay đổi hiệu quả vật liệu pin và cải thiện hiệu suất pin. Ngoài ra, ALD cũng có thể được sử dụng để tổng hợp các vật liệu điện phân tích cực, âm và trạng thái rắn để chuẩn bị pin lithium-ion.

2. Ứng dụng ALD trong lĩnh vực pin mặt trời

Các ứng dụng của công nghệ ALD trong lĩnh vực pin mặt trời chủ yếu bao gồm: chuẩn bị các điện cực quang cấu trúc nano; ② Thụ động hóa sửa đổi bề mặt điện cực; ③ Nhạy cảm với bề mặt điện cực thông qua các chấm lượng tử hoặc các hạt nano kim loại; ④ Điều khiển dải năng lượng cho các tế bào năng lượng mặt trời nhạy cảm với thuốc nhuộm và các tế bào năng lượng mặt trời màng mỏng.

3. Ứng dụng ALD trong lĩnh vực siêu tụ điện

Công nghệ ALD có thể được sử dụng không chỉ để chuẩn bị vật liệu hoạt động điện cực có công suất cụ thể cao, mà còn để chuẩn bị cấu trúc nano, ổn định và nâng cao hiệu suất của vật liệu điện cực, đóng một vai trò quan trọng trong lĩnh vực công suất cao, ổn định cao siêu tụ điện.Tác dụng.

4. Ứng dụng ALD trong lĩnh vực pin nhiên liệu

ALD có một loạt các ứng dụng trong lĩnh vực pin nhiên liệu: các chất xúc tác hoạt động cao phù hợp với pin nhiên liệu có thể thu được bằng cách điều chỉnh thành phần của các chất xúc tác kim loại (ví dụ: các hạt nano lưỡng kim), kích thước của các hạt nano kim loại; ② lắng đọng các hạt kim loại trên cấu trúc nano để chuẩn bị anode của pin nhiên liệu; ③ Chuẩn bị chất điện phân rắn hiệu suất cao để giảm nhiệt độ hoạt động của pin nhiên liệu; ④ Tạo lớp bảo vệ trên bề mặt điện cực để cải thiện sự ổn định và hiệu suất của pin.

5. Ứng dụng ALD trong lĩnh vực phân hủy nước quang điện

Công nghệ ALD, do đặc tính tăng trưởng của nó, có thể chuẩn bị không chỉ các lớp hoạt động quang, mà còn lắng đọng các lớp tăng cường hiệu suất hoặc lớp ổn định trên các điện cực quang, giải quyết một số vấn đề khó khăn ảnh hưởng đến lĩnh vực phân hủy nước của các tế bào quang hóa.