Lớp nguyên tử ALD lắng đọng nhỏ gọn, kinh tế

Có thể đàm phánCập nhật vào02/06

Mô hình

Thiên nhiên của nhà sản xuất: Nhà sản xuất

Danh mục sản phẩm

Nơi xuất xứ

Tư vấn trực tuyến

Tổng quan

Thiết bị lắng đọng lớp nguyên tử ALD này đặc biệt thích hợp cho các thiết bị bàn nhỏ của người dùng nghiên cứu khoa học. Nó là kinh tế và thiết thực, hoạt động đơn giản, chất lượng ổn định và đáng tin cậy, chi phí tiêu thụ sau bán hàng rất thấp, bảo trì thuận tiện và dễ vận hành. Phòng thí nghiệm giáo sư chuyên gia ALD được sử dụng rộng rãi.

Chi tiết sản phẩm

Giới thiệu thiết bị:
Thiết bị lắng đọng nguyên tử ALD này,Thiết bị bàn nhỏ đặc biệt thích hợp cho người dùng nghiên cứu khoa học. Nó kinh tế và thiết thực, hoạt động đơn giản, chất lượng ổn định và đáng tin cậy, chi phí tiêu thụ sau bán hàng rất thấp, bảo trì thuận tiện và dễ vận hành. Nó đã được sử dụng rộng rãi trong các phòng thí nghiệm giáo sư chuyên gia ALD.

Giới thiệu nhóm R&D:

Thiết bị này được phát triển bởi các giáo sư trong nhóm nghiên cứu ALD nổi tiếng của Harvard, Roy G. Grodon.

Roy G. Gordon, Giáo sư Thomas D. Cabot, Khoa Hóa học, Đại học Harvard, Hoa Kỳ. Các lĩnh vực nghiên cứu liên quan đến toán học ứng dụng, vật lý, hóa học và khoa học vật liệu. Các phương pháp tính toán gần đúng hiệu quả cho các hàm đặc biệt (Airy, Bessel, Weber, Dawson, Morse, v.v.) đã được phát triển trong lĩnh vực toán học ứng dụng và được áp dụng trong các lĩnh vực như cơ học lượng tử và động lực hóa học. Trong lĩnh vực hóa lý, hàm tiềm năng "Gordon-Kim" đã được đề xuất, có thể được sử dụng để tính toán chính xác các lực tương tác giữa các phân tử. Trong lĩnh vực khoa học vật liệu, kể từ những năm 80, Viện sĩ Roy Gordon đã nghiên cứu tiền chất và quy trình lắng đọng hơi hóa học (CVD) và lắng đọng lớp nguyên tử (ALD), phát triển một loạt các tiền chất có thể được sử dụng để phát triển kim loại tinh khiết, oxit kim loại, nitride và sulfua, v.v., và được áp dụng trong sản xuất công nghiệp. Các phương pháp kỹ thuật được phát minh bởi Viện sĩ Roy Gordon, hiện đang được sử dụng trong ngành công nghiệp, bao gồm: CVD chuẩn bị cấu trúc màng nhiều lớp oxit thiếc/silica để sử dụng trong kính cửa sổ tiết kiệm năng lượng;ALD nhanh chóng chuẩn bị màng đa lớp Nano Al2O3/SiO2 cho các thiết bị lọc ánh sáng;ALD chuẩn bị màng nano titan nitride cho rào cản khuếch tán của dây dẫn đồng, nhôm trong chip máy tính;CVD chuẩn bị ITO phim áp dụng cho các tế bào năng lượng mặt trời màng mỏng; CVD chuẩn bị màng nhôm nitride được áp dụng cho màn hình phát quang trường.

Tính năng thiết bị:

1. Thiết bị có kích thước nhỏ và kích thước nhỏ,Đặc biệt thích hợp cho nghiên cứu có chân không cao, vật liệu nhạy cảm caoKhông có yêu cầu phòng sạch chuyên nghiệp, loại nhỏ nhất có thể trực tiếp đặt vào trong hộp đựng găng tay. Cũng có thể thiết lập các hình thức kết nối khác nhau theo yêu cầu và hộp găng tay;

2. thiết bị phù hợp cho nghiên cứu khoa học cấp độ, tối thiểu có thể được 2 inch lót;

3. Bột bọc có thể được thực hiện;

4. Có thể inTrang web được nâng cấp từ loại nhiệt lên loại plasma；

5. Có thể tùy chỉnh bảng mẫu lên đến gần một trăm chất nền theo nhu cầu.

Quan tâm xin vui lòng liên hệ với chúng tôi ngay bây giờ.

Trường hợp người dùng:

Đại học Harvard, Đại học Helsinki (nguồn gốc của ALD), Đại học Northwestern, Đại học Cambridge (Vương quốc Anh), Đại học Oxford, Đại học Rice, Đại học British Columbia (Canada), ENS-Paris (Pháp, Cao đẳng Sư phạm), Viện Khoa học Vật liệu Quốc gia (Nhật Bản, Multiset), Đại học Waseda (Multiset), Đại học Tokyo, Viện Nghiên cứu Lượng tử Bắc Kinh, Đại học Bắc Kinh, Đại học Bristol (Vương quốc Anh), Đại học Sheffield, v.v.

Sản phẩm tương tự Khuyến nghị