Hệ thống lắng đọng hơi hóa học tăng cường plasma (PECVD)

Có thể đàm phánCập nhật vào12/23

Mô hình

Thiên nhiên của nhà sản xuất: Nhà sản xuất

Danh mục sản phẩm

Nơi xuất xứ

Tư vấn trực tuyến

Tổng quan

Vision 410 Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition System (PECVD) – Sự tiếp nối của dòng PTI 790+tiếp tục trải nghiệm thành công trong việc phục vụ các thị trường đa dạng

Chi tiết sản phẩm

1. Khả năng lắng đọng linh hoạt

·Quá trình lắng đọng dựa trên silicon -Hạt chia organic (a-Si), vàHạt chia organic (SiC）

·Nghiên cứu&Phát triển

·Tạo mẫu

·Sản xuất số lượng nhỏ -Quang tử học,Chiếu sáng trạng thái rắn、Sản phẩm MEMSCông nghệ nano

·Ứng dụng: Lớp cách điện giữa các lớp, lớp thụ động, lớp đóng gói, lớp mặt nạ, lớp chống phản xạ

2. Giá trị hiệu suất

1. Kích thước lớn của bàn tải thủ công(406mm)

2. Độ sạch tuyệt vời

3. CaoTính đồng nhất

4.Thông lượng cao

5. Phần mềm đáng tin cậy

6.Dấu chân nhỏ

7.Chi phí hiệu quả

8.Bảo trì dễ dàng

9.Thông qua hội đồng đầu công nghiệp

3. Giải pháp đã được chứng minh

· Tiếp tụcPTI 790/790+Ý tưởng thiết kế

hoặcTải thủ công mà không cần khóa tải (có thể hỗ trợ lô hoặc wafer đơn)

hoặcĐã cài đặt nhiều hơn400Bộ hệ thống

hoặcCông nghệ đơn giản và cấu trúc mạnh mẽ Giá cả cạnh tranh, chất lượng đáng tin cậy

等离子体增强化学气相沉积（PECVD）系统

Diện tích sàn nhỏ, tiết kiệm không gian

等离子体增强化学气相沉积（PECVD）系统

Sản phẩm tương tự Khuyến nghị