Máy phún xạ ion Magnetron

GVC-2000PMáy phún xạ ion MagnetronTính năng sản phẩm:
Thao tác 1. Một phím, có âm nhắc nhở hoàn thành công việc.
2, hạt mạ nhỏ, không có thiệt hại nhiệt.
3, thay thế mục tiêu là rất đơn giản.
4, cấu trúc niêm phong đặc biệt, kính không dễ bị hư hỏng.
5, Hướng dẫn vận hành tích hợp, có thể vận hành thành thạo mà không cần đào tạo.

Kích thước hạt vàng (silica flake spray) màng tế bào 100.000 lần (spray platinum)

GVC-2000PMáy phún xạ ion MagnetronChương trình kỹ thuật

1. Mục tiêu phún xạ mục tiêu được sử dụng với đầu mục tiêu phún xạ magnetron phẳng để đảm bảo rằng không có thiệt hại nhiệt nào xảy ra với mẫu trong quá trình làm việc.

2. Sử dụng ARM làm bộ xử lý, sở hữu trí tuệ hoàn toàn độc lập, khả năng mở rộng tốt, tùy chọn:

a) Thành phần giám sát độ dày màng: độ dày lớp phủ mong muốn có thể được đặt trước, độ dày lớp phủ được kiểm soát chính xác trong quá trình làm việc;

b) Bộ phận làm nóng bảng mẫu: Độ dày của lớp màng và lực liên kết với cơ sở có thể được cải thiện bằng cách gia nhiệt.

3. Màn hình LCD cảm ứng 7 inch với độ phân giải 800 × 480, hiển thị kỹ thuật số đầy đủ;

3.1 Có thể được thiết lập: (1) Sputtering hiện tại; b) Thời gian phun trào; c) Các loại vật liệu mục tiêu; (4) độ chân không làm việc; (5) Khí làm việc; (6) độ sáng màn hình và các thông số khác;

3.2 có thể được hiển thị: (1) phún xạ hiện tại; b) Thời gian còn lại của phun trào; (3) độ chân không làm việc; d) Thời gian sử dụng tích lũy vật liệu mục tiêu; đ) Các thông số như thời gian sử dụng tích lũy của thiết bị.

4. Sputtering hiện tại: 2-100mA liên tục điều chỉnh, bước tối thiểu là 1mA;

5. Chiều dài của sputtering: 1-999s điều chỉnh liên tục, bước tối thiểu là 1s；

6. chân không phún xạ: 4-20Pa điều chỉnh liên tục, bước tối thiểu 0.1Pa；

7. Mục tiêu phún xạ: tiêu chuẩn là mục tiêu bạch kim có độ tinh khiết cao (độ tinh khiết 4N9), đặc điểm kỹ thuật là φ57 × 0,12mm; vàng, bạc, đồng, hợp kim palladium vàng và các kim loại khác cũng có thể được sử dụng làm mục tiêu phún xạ;

8. Buồng chân không: Sử dụng kính boron silicon cao với độ truyền ánh sáng cao, kích thước khoảng φ200 × 130mm;

9. Bảng mẫu: bảng mẫu bằng thép không gỉ có thể tự quay, đường kính φ125mm, tốc độ quay có thể điều chỉnh 4-20 vòng/phút;

10. Thông số mục tiêu: Hệ thống cung cấp các thông số làm việc của vàng, bạch kim, bạc, đồng cho không khí và argon, có thể được sử dụng trực tiếp. Đồng thời cung cấp 4 loại mục tiêu tùy chỉnh, người dùng có thể thiết lập các thông số làm việc theo nhu cầu riêng của họ;

11. Pre-phún xạ: Pre-phún xạ vách ngăn với điều khiển hoàn toàn tự động, đảm bảo quá trình làm việc ổn định và đáng tin cậy;

12. Hoạt động một phím: Hệ thống có thể tự động hoàn thành quá trình làm việc như bơm hơi, bơm hơi, điều chỉnh thông số, phun trào trước, phun sơn và như vậy; Sau khi phún xạ hoàn thành, tắt bơm chân không, hệ thống tự động bơm hơi để cân bằng áp suất trong nhà và ngoài trời chân không;

13. Với dòng điện phún xạ và độ chân không liên kết kép, an toàn và đáng tin cậy, bất kỳ điều kiện nào được kích hoạt, hệ thống có thể ngừng hoạt động để ngăn chặn thiệt hại thiết bị do thao tác sai;

14. Hệ thống sử dụng máy đo chân không Pilani làm yếu tố đo chân không;

15. Chân không giới hạn tốt hơn 1Pa, tốc độ bơm chân không là 1,1L/s;

16. Với chức năng hiển thị đường cong thời gian thực, dòng điện phún xạ và độ chân không rất thuận tiện cho người dùng để hiểu trạng thái làm việc của hệ thống;

17. Sử dụng cấu trúc thay đổi mục tiêu chuyên nghiệp, mục tiêu thay đổi nhanh chóng có thể đạt được mà không cần bất kỳ công cụ nào;

18. Cung cấp thiết bị: AC220 ± 10% V, công suất định mức 500W.