Máy phún xạ ion điều khiển từ GVC-2000

Có thể đàm phánCập nhật vào01/27

Mô hình

Thiên nhiên của nhà sản xuất: Nhà sản xuất

Danh mục sản phẩm

Nơi xuất xứ

Tư vấn trực tuyến

Tổng quan

GVC-2000 Magnetic Control Ion Sputter hạt nhỏ hơn và phù hợp hơn cho quan sát hình ảnh cao cấp, phù hợp với gương phát xạ trường/trường phân biệt cao.

Chi tiết sản phẩm

Máy phún xạ ion điều khiển từ GVC-2000mô tả

Cơ bản không tăng nhiệt độ, không mất nhiệt trên bề mặt mẫu.

GVC-2000磁控离子溅射仪

GVC-2000 Biểu đồ hiệu ứng mẫu Các thiết bị làm mẫu khác

Hai hình ảnh trên là hình ảnh kính điện của các mẫu màng lọc, hình ảnh bên trái là hình ảnh quan sát kính điện sau khi phun vàng GVC-2000, có thể thấy rằng hình dạng của mẫu là thực sự hoàn chỉnh, hình ảnh bên phải là hình ảnh quan sát kính sau khi phun vàng của các thiết bị khác, có thể thấy rằng thiệt hại nhiệt là nghiêm trọng, hầu như không thể nhận ra là cùng một mẫu.

Các hạt nhỏ hơn, phù hợp hơn để quan sát hình ảnh có độ phân giải cao, phù hợp với gương phát xạ trường/trường phân biệt cao.

GVC-2000磁控离子溅射仪

Kích thước hạt vàng: 6~10nm

GVC-2000磁控离子溅射仪

Màng gốm, vật liệu mạ Pt, hình ảnh 100.000 lần, vật liệu màng lọc không có cảm giác hạt, vật liệu mạ Pt, hình ảnh 200.000 lần, không có cảm giác hạt.

Máy phún xạ ion điều khiển từ GVC-2000Điện áp thấp và dòng điện lớn phún xạ, hiệu quả cao hơn.

Sản phẩm tương tự Khuyến nghị