Tiền gửi phim CVD

Có thể đàm phánCập nhật vào05/08

Mô hình

Thiên nhiên của nhà sản xuất: Nhà sản xuất

Danh mục sản phẩm

Nơi xuất xứ

Tư vấn trực tuyến

Tổng quan

Hệ thống lắng đọng plasma SI 500D là thiết bị ICP-PECVD sử dụng nguồn plasma mật độ cao ICP để lắng đọng màng điện môi. Các bộ phim SiO2, Si3N4 và SiOxNy chất lượng cao có thể được lắng đọng ở nhiệt độ rất thấp ( lt; 100 amp; amp; 186; C). Có thể đạt được sự điều chỉnh liên tục của độ dày màng lắng đọng, chỉ số khúc xạ, ứng suất.

Chi tiết sản phẩm

Công nghệ SENTECH ICPHệ thống lắng đọng Plasma-SI 500D

Là nhà sản xuất thiết bị bán dẫn chính thống, nghiên cứu phát triển, sản xuất và bán các dụng cụ đo màng mỏng tốt (máy phản xạ, máy lệch hình bầu dục, máy lệch hình bầu dục phổ) và thiết bị xử lý plasma (máy khắc plasma, hệ thống lắng đọng plasma, hệ thống tùy chỉnh người dùng).

SI 500DHệ thống lắng đọng plasma là thiết bị ICP-PECVD sử dụng nguồn plasma mật độ cao ICP để lắng đọng màng điện môi. Các bộ phim SiO2, Si3N4 và SiOxNy chất lượng cao có thể được lắng đọng ở nhiệt độ rất thấp (<100ºC). Có thể đạt được sự điều chỉnh liên tục của độ dày màng lắng đọng, chỉ số khúc xạ, ứng suất.

SI 500 DCác tính năng chính:

Thích hợp cho 8 inch và sau wafer
Nhiệt độ thấp lắng đọng phim điện môi chất lượng cao: 80 ° C~350 ° C
Tỷ lệ lắng đọng cao
Thiệt hại thấp
Đặc tính phim (độ dày, chỉ số khúc xạ, ứng suất) có thể điều chỉnh liên tục
Thiết bị vớt váng dầu mỡ cho xử lý nước thải -PetroXtractor - Well Oil Skimmer (PLanarTrắnSpiralAtin)
SENTECHPhần mềm vận hành thiết bị Plasma nâng cao
Phương pháp lắp đặt xuyên tường

Cấu hình hệ thống:

Sản phẩm tương tự Khuyến nghị