Máy nướng keo in thạch bản (Máy nướng keo wafer)

Mô tả sản phẩm Máy nướng keo HTL-350 (Máy nướng keo wafer):

1. Áp dụng công nghệ năng lượng nhiệt cấp thế giới NanoHeat, bức xạ siêu hồng ngoại, không có thành phần nhiệt cơ học, có thể cháy khô, không có nhiễu điện từ và nguy hiểm,

2. Nhiệt độ bề mặt tấm đồng đều, nhiệt độ trong vòng 100 ℃, độ chính xác 0,1~0,3 ℃, độ chính xác% 0,5 ℃,

3. Màn hình LED, nhiệt độ hẹn có thể được đặt, đầu dò nhiệt độ tích hợp và đầu dò nhiệt độ bên ngoài, có thể được chuyển đổi tự do.

4. Chức năng báo động quá nhiệt, đặt chức năng thời gian nhiệt độ, thử nghiệm thuận tiện hơn

5. Anodized, Nano gốm đen phun cát, tốc độ bắn nhiệt cao, liền mạch làm nóng bề mặt tấm, độ phẳng cao, chống axit, kiềm, chống ăn mòn, không ô nhiễm chéo, làm sạch dễ dàng.

6. Tùy chọn với nắp cách nhiệt, toàn bộ khu vực sưởi ấm tạo thành một khoang cách nhiệt, cải thiện đáng kể độ đồng đều nhiệt độ, cũng đóng vai trò chống bụi;

7. Máy có thể chọn với chức năng áp suất âm, bề mặt với một số lỗ hấp phụ, có thể làm cho vật liệu được làm nóng phù hợp chặt chẽ với bề mặt của tấm sưởi, đóng một hiệu ứng đồng đều của nhiệt;

8. Bảo vệ khỏi nhiễu từ và nguy hiểm: làm cho nó trở thành một lựa chọn tốt cho nghiên cứu và phát triển wafer silicon, sử dụng y tế và phòng thí nghiệm

9. Được sử dụng rộng rãi trong công nghiệp, chất bán dẫn điện tử, nông nghiệp, hóa học, dược phẩm, sinh học, chuẩn bị vật liệu mới và sưởi ấm thí nghiệm khác.

HTL-350 Photographic Glue Baking Machine (Máy nướng keo wafer) Đặc điểm sản phẩm:

1. Tăng cường công nghệ sưởi ấm hồng ngoại,

2. Với chức năng áp suất âm chân không, bề mặt được trang bị một số lỗ hấp phụ, nó có thể làm cho vật liệu được làm nóng phù hợp chặt chẽ với bề mặt, do đó đạt được hiệu quả đồng đều của nhiệt.

3. Với nắp cách nhiệt sưởi ấm, nhiệt độ có thể được thiết lập, toàn bộ khu vực sưởi ấm tạo thành một khoang cách nhiệt, cải thiện đáng kể độ đồng đều nhiệt độ và cũng đóng vai trò chống bụi;

4. Chức năng nạp tự động, chức năng bảo vệ quá nhiệt, chức năng báo động quá nhiệt, chức năng thời gian, đã có giấy chứng nhận CE, thử nghiệm an toàn hơn và thuận tiện hơn!!

Thông số kỹ thuật của HTL-350 Photographic Glue rang máy (wafer glue rang máy):

1. Công suất đầu ra sưởi ấm: 2000W

2. Kiểm soát nhiệt độ bề mặt tấm: nhiệt độ phòng ～ 350 ℃

3. Chế độ điều khiển nhiệt độ: Nhiệt độ hiển thị kỹ thuật số LED được đặt tự do

4. Kiểm tra nhiệt độ: điều khiển nhiệt độ tích hợp và điều khiển nhiệt độ bên ngoài có thể được chuyển đổi

5. Độ chính xác kiểm soát nhiệt độ: ± 0,1

6. Khu vực sưởi ấm: 350 × 350mm (kích thước có thể được tùy chỉnh)

7. Tùy chọn chức năng: Chức năng hấp phụ chân không: Vô cực điều chỉnh độ chân không, làm cho mẫu được làm nóng đồng đều hơn;

8. Chức năng Thimble: đường kính 3mm, chiều cao 30mm tùy ý đặt chiều cao, thuận tiện để lấy mảnh, mẫu không tiếp xúc, tránh ô nhiễm;

9. Chức năng giới hạn: phù hợp với kích thước khác nhau của wafer, ngăn ngừa sự dịch chuyển mẫu, đóng một vai trò cố định;

10. Hệ thống điều khiển phân đoạn chương trình: cài đặt thời gian, cài đặt tỷ lệ công suất đầu ra, đường cong ấm lên, truyền thông, v.v.

11. Kích thước tổng thể của sản phẩm: 420 × 460 × 250mm

12. Vật liệu tấm: Tấm sưởi bằng gốm Nano