MKS Revolution RPS AX7690 Nguồn plasma từ xa

MKS Revolution RPS AX7690 Nguồn plasma từ xaCung cấp một nguồn khí phản ứng hiệu suất cao và sạch sẽ cần thiết để xử lý wafer bán dẫn.R * Evolution sáng tạo là một sản phẩm trong dòng mới của các nguồn plasma từ xa được thiết kế đặc biệt cho các ứng dụng "onwafer", kết hợp công nghệ plasma vòng trường thấp đã được chứng minh của MKS và thiết kế ứng dụng plasma * để tạo ra các hạt trung tính nguyên tử siêu sạch hoặc các bộ phận.

Các gốc tự do nguyên tử rất quan trọng trong nhiều quy trình, chẳng hạn như loại bỏ thạch cao, làm sạch trước wafer và quá trình nitriding và oxy hóa màng mỏng.Các gốc tự do thường được tạo ra bằng cách tạo ra plasma.Tuy nhiên, các hạt tích điện liên quan đôi khi không được hoan nghênh.Để tránh những tác động bất lợi này, plasma được tạo ra bên ngoài và các gốc tự do được vận chuyển hiệu quả đến phòng xử lý.

MKS Revolution RPS AX7690 Nguồn plasma từ xaMáy phát điện khí phản ứng tích hợp buồng chân không thạch anh, nguồn RF và tất cả các điều khiển cần thiết vào một đơn vị nhỏ gọn, độc lập để dễ dàngCài đặt trực tiếp trên phòng xử lý của công cụ.Kết quả là có được một nguồn gốc nguyên tử cực kỳ sạch sẽ, tạo ra phản ứng mong muốn trên các tấm wafer trong khi giảm đáng kể độ phức tạp.Nguồn plasma từ xa R * Evolution cung cấp công suất plasma lên đến 6 kW, cung cấp lưu lượng gốc tự do cao (lên đến 5 slm) cho quy trình, cho phép tốc độ lột hoặc khắc nhanh gấp đôi so với các hệ thống vi sóng truyền thống.Do hiệu quả cao và chi phí thấp, nguồn plasma từ xa R * Evolution làm giảm đáng kể chi phí đầu tư và vận hành công cụ tổng thể.Ngoài ra, kích thước nhỏ hơn và thiết kế đơn giản giúp người dùng dễ dàng cài đặt, vận hành và bảo trì.