Zeiss ZEISS tập trung ion chùm gương Crossbeam Series

Zeiss ZEISS tập trung ion chùm gương Crossbeam SeriesMô tả chi tiết:

Zeiss ZEISS tập trung ion chùm gương Crossbeam SeriesKhám phá các phương pháp xử lý FIB hoàn toàn mới - từ kích thước lớn đến cắt chính xác nano:

Tận dụng tối đa hiệu suất tuyệt vời của ống kính FIB lon-sculptor ở điện áp thấp để nâng cao chất lượng mẫu. Giảm mức độ phi tinh thể của mẫu chính xác, có thể đạt được hiệu quả mẫu tuyệt vời sau khi đánh bóng mỏng, đồng thời có lợi thế chuyển đổi dòng chảy chùm nhanh chóng, tăng tốc ứng dụng FIB.

Bạn cũng có thể chọn hiệu suất luồng chùm lớn tuyệt vời, tăng gấp đôi tốc độ thu thập cho các ứng dụng FIB-SEM 3D. Quá trình thu thập hình ảnh rất ổn định để đảm bảo bạn nhận được kết quả chính xác và có thể lặp lại cao. Thiết kế hộp mực cho phép phạm vi dòng chảy chùm của nó trải dài trên năm thứ tự cường độ, tức là từ 1pA đến 100 nA. Dòng chảy chùm lên đến 100 nA cho phép loại bỏ vật liệu nhanh chóng và chính xác và hoàn thành quá trình cắt Trong khi đó, độ phân giải FIB cao dưới 3nm có thể thu được dưới luồng chùm thấp. Khi làm việc dưới dòng phát 2μA, nguồn chùm ion tập trung Gallium, LMIS (nguồn ion kim loại lỏng) có tuổi thọ sử dụng thông thường trên 3.000 uAh. Với chức năng làm nóng nguồn ion tự động, dòng sản phẩm Crossbeam có thể hoàn thành các thí nghiệm trong thời gian siêu dài.