Quantum X Shape Hệ thống in thạch bản không mặt nạ hai photon

Có thể đàm phánCập nhật vào01/16

Mô hình

Thiên nhiên của nhà sản xuất: Nhà sản xuất

Danh mục sản phẩm

Nơi xuất xứ

Tư vấn trực tuyến

Tổng quan

Quantum X Shape Dual Photon Masked Membrane Photographic System là một mô hình toàn diện theo đúng nghĩa của nó. Dựa trên công nghệ Dual Photon Aggregation, hệ thống này không chỉ là mô hình tốt nhất để tạo hình nhanh mà còn phù hợp với quy mô sản xuất 2,5D và 3D dựa trên bất kỳ độ chính xác dưới micron nào trên wafer. Quantum X Shape hoàn toàn mới cho phép bạn in bất kỳ cấu trúc vi nạp 2.5D và 3D nào, mang lại sự tự do thiết kế thực sự. Hệ thống này cho phép bạn thực hiện tất cả các loại cấu trúc tỷ lệ khung hình cao.

Chi tiết sản phẩm

Là hệ thống in 3D trước đây của cùng loại.

Hình dạng X lượng tử Có thể in bất kỳ hình dạng nào, kích thước tối thiểu lên đến 100nm đồng thời bề mặt thô(R)một)Dưới 5nm, diện tích tối đa lên đến 25 cm

Hệ thống in có chức năng mô đun giọt tự động, hiệu quả qua đêm có thể đạt tới 200 cấu trúc đặc trưng.

Vật liệu polymer kép photon hiệu suất cao phổ quát, thích hợp cho in polymer và thủy tinh.

Đặt lại độ chính xác.

Được công nhận bởi ngành công nghiệpNanoscribeHệ thống gia công thế hệ thứ hai cho nền tảng Quantum X do công ty đưa ra,Quantum X Shape Hệ thống in thạch bản không mặt nạ hai photonSở hữu trong lĩnh vực chế biến vi nạp 3DTuyệt vời caoĐộ chính xác, sánh vai với nhau.NanoscribeCông ty đột phá trong ứng dụng cấu trúc bề mặtIn thạch bản dual photon grayscale(2GL ®)。 Thương hiệu mớiHình dạng X lượng tửĐộ chính xác cao phụ thuộc vào tỷ lệ điều chế thể tố có khả năng cao nhất và lưới xử lý siêu tinh tế, từ đó thực hiện kiểm soát kích thước của á thể tố. Ngoài ra, lợi ích từIn thạch bản dual photon grayscaleTinh chỉnh voxel, hệ thống này có thể đạt được siêu mịn trong việc tạo ra các cấu trúc vi mô bề mặt trong khi vẫn duy trì kiểm soát hình dạng chính xác cao.

Hình dạng lại đầu ra.

Quantum X Shape Hệ thống in thạch bản không mặt nạ hai photonKhông chỉ áp dụng cho y sinh học, quang học, MEMS、 Công cụ lý tưởng cho việc tạo mẫu nhanh các thiết bị trong microrunner, kỹ thuật bề mặt và nhiều lĩnh vực khác, đồng thời cũng trở thành công cụ dễ dàng để sản xuất hàng loạt các đơn vị cấu trúc nhỏ dựa trên wafer.

Thay đổi khả năng sử dụng.

Cải thiện đáng kể tiện ích bằng cách kiểm soát các tập tin in bằng màn hình cảm ứng tích hợp hệ thống. Thông qua phần mềm nanoConnectX của hệ thống để giám sát từ xa các tập tin in và cấu hình sử dụng đa người dùng, thúc đẩy tiêu chuẩn hóa công nghiệp và sản xuất hiệu quả hàng loạt dựa trên wafer.

Các tính năng chính:

* In kích thước nano: kiểm soát quy mô tính năng theo bất kỳ hướng không gian nào, lên đến 100nm

* Xử lý vi nạp 3D tốc độ cao để kiểm soát voxel siêu nhanh và lưới xử lý 100nm

* Độ chính xác theo dõi ở tốc độ quét nhanh nhất được đảm bảo bởi điều khiển quỹ đạo rung

* Điều khiển và định vị năng lượng laser chính xác cao được đảm bảo bởi đường dẫn tự hiệu chuẩn tự động

* Lựa chọn rộng rãi lên đến 6 inch tấm cơ sở và tấm silicon

* Sản xuất hàng loạt công nghiệp: 200 cấu trúc quy mô trung gian tiêu chuẩn Sản lượng qua đêm

* Màn hình cảm ứng và chức năng điều khiển từ xa đảm bảo tính thực tế và cảm giác trải nghiệm

* Tạo mẫu nhanh, độ chính xác cao, tự do thiết kế cao, quy trình làm việc đơn giản và rõ ràng

* Sản xuất hàng loạt cấp wafer được chứng minh công nghiệp

* Vật liệu in phổ biến và chuyên dụng

* Tương thích với vật liệu in độc lập và bên thứ ba

Sản phẩm tương tự Khuyến nghị