Máy phún xạ ion Hitachi (Máy mạ vàng) MC1000

MC1000 Ion Sputter Coater là một thiết bị chuẩn bị mẫu để sử dụng với kính hiển vi điện tử quét (SEM). MC1000 được thiết kế để lớp phủ kim loại mỏng, chẳng hạn như bạch kim (Pt), vàng (Au), hợp kim bạch kim-palladium (Pt-Pd) hoặc hợp kim vàng-palladium (Au-Pd), để làm cho bề mặt của một mẫu dẫn điện và tránh tích tụ điện trong khi quan sát trong SEM. Độ dày của lớp phủ kim loại có thể thay đổi từ vài nanomet lên đến hàng chục nanomet bằng cách sử dụng điều khiển màn hình cảm ứng LCD. Có thể lưu trữ tối đa 5 điều kiện xử lý.

MC1000 hoạt động thông qua một điện cực magnetron, có nghĩa là một nam châm được tích hợp vào mục tiêu (điện cực âm) để tạo ra một từ trường thẳng đứng với trường điện trên bề mặt mục tiêu. Điều này giảm thiểu thiệt hại mẫu do bức xạ với các hạt di chuyển nhanh (bao gồm các ion phản chiếu) và cho phép lớp phủ với độ hạt cao (các hạt đường kính nhỏ hơn).

Tính năng

• Hoạt động một chạm từ bảng điều khiển cảm ứng LCD
• Lưu và nhớ đến 5 công thức nấu ăn
• Điện cực loại magnetron làm giảm thiệt hại mẫu và giảm kích thước hạt trung bình
• Phòng tùy chọn cho các mẫu có đường kính lên đến 6 in (150 mm)
• Khoảng cách tùy chọn cho các mẫu cao lên đến 1,75 in (45 mm)
• Van chính để giữ buồng dưới chân không khi không được sử dụng