Nguồn ion Hall

Nguồn ion HalleH2000eH30001978 Tiến sĩ Kaufman thành lập Kaufman&Robinson, Inc. tại Hoa Kỳ, nghiên cứu và phát triển các nguồn ion Kaufman vàNguồn ion HallNguồn ion Kaufman của Mỹ đã được khách hàng công nhận rộng rãi sau hơn 40 năm lắng đọng và phát triển. Nguồn ion được sử dụng rộng rãi trong rửa ion, khắc ion, lớp phủ phụ trợ, lĩnh vực lắng đọng phún xạ ion

Nguồn ion HallThông số kỹ thuật eH2000eH3000：

máuNguồn ion Hallkhông lưới eHloạt

eHloạtNguồn ion HallCấu trúc nhỏ gọn,Dòng chảy lớn, năng lượng thấp, diện tích chiếu xạ lớn,Có thể xử lý màng và bề mặt một cách hiệu quả với độ chính xác nano,Cung cấp cho quá trình xử lýLớp phủ phụ trợ, làm sạch trước và nhiều chức năng khác, mô hình phong phú đáp ứng nhiều ứng dụng như nghiên cứu khoa học, công nghiệp, v.v., với

Các tính năng sau:

Lưới không rào

Dòng điện cao năng lượng thấp

chùm phân kỳ>45độ

Mô-đun anode có thể thay thế nhanh chóng

Nhiều trung hòa để lựa chọn

Hoa KỳmáuNguồn ion KaufmanLưới KDCloạt

Hoa KỳmáuNguồn ion Kaufman của Kaufman&CompanyKDCLoạt bao gồm nhiều nguồn ion có kích thước khác nhau, đáp ứng tất cả các loại ứng dụng. Nguồn ion KaufmanKDCCung cấp một chương trình hoàn chỉnh，Bao gồm nguồn ion Kaufman,Trung hòa điện tử,Máy cung cấp điện, v. v., có thể được tích hợp trực tiếp vào các thiết bị chân không khác nhau.,Ví dụ như phòng thí nghiệm nhỏ.,Máy sơn, khóa tải,Hệ thống phún xạ,Winding Coating Máy và Linear Coating.

máuNguồn ion RFLưới RFICPloạt

Nguồn ion RFRFICPloạt, tạo ra plasma thông qua cuộn dây tần số vô tuyến,Điều khiển năng lượng và hướng của chùm ion bằng lưới lưới,Là một công cụ đắc lực để sản xuất màng chính xác và xử lý bề mặt,Cải thiện hiệu quả độ dày của lớp màng, truyền ánh sáng, tính đồng nhất, độ bám dính, vv，Hỗ trợ ổn định cho quá trình.

RFICPBộ sưu tập cung cấp danh mục sản phẩm hoàn chỉnh,Bao gồm nguồn ion,Nhà cung cấp điện tử,Trung hòa,Kiểm soát nguồn điện vv