Dây chuyền sản xuất chất lỏng đánh bóng cơ khí hóa học

NP-CMPhóa họcDây chuyền sản xuất chất lỏng đánh bóng cơ khíChủ yếu dùng choCMP (Chất lỏng đánh bóng cơ khí hóa học）（Bao gồm chất lỏng đánh bóng dựa trên các hạt nano silicon oxit, chất lỏng đánh bóng cho các hạt nano xeri oxit, chất lỏng đánh bóng cơ học hóa học silicon carbide, chất lỏng đánh bóng cơ học hóa học siêu chính xác cho hệ thống nhôm oxit và hệ thống silica sol(Phân tán)và nghiền, phân tán, phân loại, sửa đổi, vv của tất cả các loại vật liệu nano, vật liệu năng lượng mới, chất chống cháy vô cơ, vv

hóa họcDây chuyền sản xuất chất lỏng đánh bóng cơ học (chất lỏng đánh bóng CMP) là thiết bị đặc biệt để trộn, phân tán, mài và đồng nhất hóa các thành phần của chất lỏng đánh bóng (như mài mòn, thuốc thử hóa học, chất phân tán, v.v.), cốt lõi là để đảm bảo hệ thống ổn định, không có sự kết hợp và thành phần đồng nhất.

Thành phần thiết bị cốt lõi (theo quy trình chuẩn bị)

1. Thiết bị trộn sẵn: sử dụng nhiều hơn ** bể trộn tốc độ cao ***, được sử dụng để trộn ban đầu các tác nhân hóa học (như chất oxy hóa, chất điều chỉnh pH) với dung môi (thường là nước khử ion) để tạo thành một hệ thống pha lỏng đồng nhất để chuẩn bị cho việc bổ sung mài mòn tiếp theo.

2. Thiết bị nghiền phân tán:

- Máy phân tán cắt cao: Thông qua rôto quay tốc độ cao và stator tạo ra lực cắt mạnh, làm phân tán sự kết hợp ban đầu của vật liệu mài mòn (như SiO₂, Al ₂ O₃) và là thiết bị quan trọng để đảm bảo tính phân tán của chất lỏng đánh bóng.

- Máy nghiền cát/máy nghiền bi: Đối với vật liệu mài mòn có độ cứng cao hoặc dễ kết tụ, kích thước hạt mài mòn được tinh chỉnh đến phạm vi mục tiêu (thường là cấp nano) bằng cách va chạm, ma sát của môi trường mài mòn, chẳng hạn như hạt zirconia, và tăng thêm tính đồng nhất.

3. Thiết bị đồng nhất và lọc:

- Máy phân tán siêu âm: hỗ trợ loại bỏ các khối tụ nhỏ, đặc biệt thích hợp cho sự phân tán cuối cùng của vật liệu mài mòn nano, nâng cao sự ổn định của chất lỏng đánh bóng.

- Bộ lọc chính xác: Sử dụng phần tử lọc cấp micron hoặc submicron để lọc các tạp chất hạt lớn hoặc các hợp chất không bị phân tán trong hệ thống lọc, tránh trầy xước wafer và các phôi khác khi đánh bóng.

4. Thiết bị trộn và lưu trữ:

- Máy trộn tĩnh: đạt được hiệu quả trộn cao trong quá trình vận chuyển vật liệu, tránh sự không đồng đều của thành phần cục bộ.

- ** Bể chứa sạch **: Nó có chức năng khuấy, kiểm soát nhiệt độ và chống bụi để lưu trữ chất lỏng đánh bóng đã chuẩn bị xong để ngăn chặn sự phân tầng hoặc ô nhiễm.

Yêu cầu kỹ thuật cốt lõi

- Độ sạch cao: Các bức tường bên trong của thiết bị cần phải mịn màng và chống ăn mòn (ví dụ như bằng thép không gỉ 316L hoặc vật liệu PTFE), tránh các ion kim loại hoặc tạp chất làm ô nhiễm chất lỏng đánh bóng.

- Kiểm soát nhiệt độ chính xác: Một số thành phần hóa học sẽ tỏa nhiệt khi trộn, cần phải kiểm soát nhiệt độ bằng cách sử dụng hệ thống làm mát bằng nước hoặc sưởi ấm để ngăn chặn các thành phần bị hỏng hoặc kết tụ mài mòn.

- Kiểm soát các thông số: tốc độ phân tán, thời gian nghiền, tốc độ khuấy và các thông số khác cần được điều chỉnh chính xác để phù hợp với nhu cầu chuẩn bị chất lỏng đánh bóng công thức khác nhau.

NP-CMPhóa họcChất lỏng đánh bóng cơ họcDây chuyền sản xuấtDây chuyền sản xuấtCác tuyến đường công nghệ đã được thử nghiệm, đã đạt được sản xuất hàng loạt

Điều khiển thông minh, giám sát thời gian thực, lưu trữ dữ liệu đầy đủ, hiển thị biểu đồ, bảng trực quan

Tốc độ quay có thể điều chỉnh, nhiệt độ có thể kiểm soát, cường độ siêu âm có thể điều chỉnh, có thể hẹn giờ

Hoạt động dễ dàng và súc tích, làm sạch dễ dàng