Bốn mục tiêu Magnetron Sputtering Coater

Giai đoạn phún xạ magnetron so với phún xạ plasma thông thường có ưu điểm là năng lượng cao và tốc độ nhanh, tốc độ mạ cao, tăng nhiệt độ mẫu thấp, là điển hình của phún xạ nhiệt độ thấp và tốc độ cao. Mục tiêu điều khiển từ được trang bị bánh sandwich làm mát bằng nước, máy làm mát nước có thể mang nhiệt đi một cách hiệu quả, tránh nhiệt tích tụ trên bề mặt mục tiêu, để lớp phủ điều khiển từ có thể hoạt động ổn định trong một thời gian dài