Máy quang phổ huỳnh quang tia X

Máy quang phổ huỳnh quang tia X (XRF) là một dụng cụ phân tích không phá hủy dựa trên nguyên tắc huỳnh quang tia X, được sử dụng rộng rãi trong lĩnh vực phát hiện thành phần nguyên tố. Nguyên lý cốt lõi của nó là: tia X năng lượng cao kích thích các nguyên tử nguyên tố bề mặt của mẫu, làm cho các electron bên trong nhảy vọt để tạo thành các lỗ hổng. Các electron bên ngoài được lấp đầy bằng cách giải phóng huỳnh quang tia X đặc trưng. Năng lượng huỳnh quang được chụp bằng máy dò và phân tích. Nó có thể nhanh chóng và định lượng phát hiện các loại và nội dung của các nguyên tố trong mẫu. XRF có ưu điểm không phá hủy, tốc độ phân tích nhanh (chỉ mất vài giây đến vài phút để phát hiện một lần duy nhất), phát hiện đồng bộ đa nguyên tố, v.v., hỗ trợ nhiều dạng mẫu như rắn, bột, chất lỏng, phù hợp với luyện kim, địa chất, bảo vệ môi trường, hóa dầu và các ngành công nghiệp khác. Nó là một công cụ quan trọng cho khoa học vật liệu và kiểm soát chất lượng công nghiệp.