Máy quang phổ phát xạ plasma tự cảm ICP

Máy quang phổ phát xạ plasma kết hợp ICP (ICP-OES) là một dụng cụ phân tích nguyên tố dựa trên nguyên tắc kích thích plasma nhiệt độ cao, được sử dụng rộng rãi trong địa chất, bảo vệ môi trường, hóa chất, sinh học, y học, thực phẩm, luyện kim, nông nghiệp và các lĩnh vực khác. Thiết bị này tạo ra plasma nhiệt độ cao 6.000-10.000K thông qua các cuộn dây cảm ứng tần số cao, nguyên tử hóa các nguyên tố trong mẫu và kích thích phổ đặc trưng. Sau khi phân tích bằng hệ thống quang phổ để đạt được phân tích định tính và định lượng của các nguyên tố.

ICP-OES có khả năng phát hiện đồng bộ đa nguyên tố, có thể xác định đồng thời hơn 70 nguyên tố kim loại và một số nguyên tố phi kim loại, phạm vi phát hiện bao gồm dấu vết đến mức không đổi (μg/L~mg/L), phạm vi tuyến tính rộng tới 4-6 đơn đặt hàng độ lớn. Ưu điểm kỹ thuật của nó bao gồm độ nhạy cao (giới hạn phát hiện thấp tới 0,001 μg/L), độ phân giải cao (độ phân giải rộng nửa đỉnh của đường phổ thực tế ≤0,006nm), khả năng chống nhiễu mạnh và tốc độ phân tích nhanh (phát hiện đơn ≤3 phút). Thiết bị được trang bị hệ thống lấy mẫu tự động và phần mềm xử lý dữ liệu thông minh, hỗ trợ phát hiện đọc trực tiếp toàn phổ, nâng cao đáng kể hiệu quả và độ chính xác của phát hiện, là công cụ phân tích yếu tố trong lĩnh vực nghiên cứu khoa học và công nghiệp.