Máy quang phổ plasma kết hợp tự cảmLợi thế tính năng:

1. Phân tích đồng thời nhiều yếu tố: lấy mẫu một lần có thể xác định hàng chục yếu tố, không cần phát hiện từng yếu tố một, cải thiện đáng kể hiệu quả phân tích.

2. Phạm vi tuyến tính động rộng: vùng phủ sóng nồng độ từ ppm đến% có thể phát hiện cả các yếu tố hằng số nồng độ cao và phân tích các yếu tố dấu vết.

3. Khả năng chống nhiễu mạnh: nhiệt độ plasma cao, hiệu ứng ma trận mẫu nhỏ, kết hợp với công nghệ chỉnh phổ để giảm lỗi nhiễu.

4. Tốc độ phân tích nhanh: chỉ mất vài phút để phát hiện toàn bộ nguyên tố của một mẫu duy nhất, phù hợp với nhu cầu phát hiện thông lượng cao.

5. Một loạt các yếu tố áp dụng: Hầu hết các nguyên tố kim loại và một số nguyên tố phi kim loại trong bảng tuần hoàn có thể được phân tích.

　　Máy quang phổ plasma kết hợp tự cảmYếu điểm chọn mua:

1. Yêu cầu phát hiện phù hợp: Chọn loại thiết bị (ICP-OES hoặc ICP-MS) dựa trên loại nguyên tố phân tích (kim loại/phi kim loại), phạm vi nồng độ (dấu vết/hằng số) và loại ma trận mẫu (rắn/lỏng/khí).

Độ nhạy và giới hạn phát hiện: Ưu tiên các thiết bị có giới hạn phát hiện thấp (như mức ppt) và phạm vi tuyến tính rộng (6-8 mức độ) để đáp ứng nhu cầu phân tích dấu vết.

3. Khả năng phân tích đa yếu tố: Xác nhận xem thiết bị có hỗ trợ phát hiện đồng thời tất cả các yếu tố trong danh sách các yếu tố mục tiêu hay không, tránh chi phí thêm thời gian cho nhiều phân tích.

4. Khả năng chống nhiễu: Đối với các mẫu ma trận phức tạp (chẳng hạn như muối cao, chất hữu cơ cao), chọn thiết bị có công nghệ ức chế nhiễu ion hóa để đảm bảo độ chính xác của phân tích.

5. Dễ vận hành: Đánh giá mức độ tự động hóa thiết bị (chẳng hạn như lấy mẫu tự động, xử lý dữ liệu tự động) và giao diện phần mềm thân thiện, giảm ngưỡng hoạt động.