Siêu cấu trúc bề mặt không mặt nạ laser trực tiếp viết máy khắc laser nhà sản xuất -- Nạp nhu ba chiều Nanoscribe, giải chuông còn cần buộc chuông người!

Về chúng tôi

Nano 3D Technology (Shanghai) Co., Ltd. Nanoscribe

Thông tin E-mail
cui@nanoscribe.com
Điện thoại
13917994506
Địa chỉ
Phòng 108, số 26 đường Jiafeng, Khu mậu dịch tự do mới Phố Đông, Thượng Hải

Ngày:2025-10-30Đọc:0

Bề mặt siêu cấu trúc bao gồm các nguyên tử nhân tạo ở quy mô bước sóng dưới, đòi hỏi độ chính xác xử lý, chất lượng bề mặt và tự do thiết kế rất cao.

Là người tiên phong của công nghệ in thạch bản không mặt nạ dual photon, thiết bị viết trực tiếp laser không mặt nạ dòng Quantum X của nó được trang bị công nghệ in thạch bản màu xám dual photon, kích thước đặc trưng tối thiểu có thể đạt 160nm, độ nhám bề mặt ≤ 10nm. Trong đó hệ thống Quantum X align có độ chính xác căn chỉnh nano, có thể tạo ra cấu trúc ba chiều có độ phân giải cao trên sợi quang, chip và wafer, có thể xử lý chính xác các cấu trúc phức tạp như bề mặt tự do của bề mặt siêu cấu trúc, Nanoscribe 3D là công ty con thuộc sở hữu hoàn toàn của Trung Quốc, chịu trách nhiệm quảng bá và dịch vụ bản địa hóa loạt thiết bị này.

Đặc điểm kỹ thuật: Tập trung vào công nghệ in 3D Duplex Photon Aggregation (TPP), dòng Photonic Professional GT của nó là tiêu chuẩn công nghiệp Rod.

Ưu điểm: Khả năng xử lý cấu trúc vi nạp ba chiều thực sự với độ phân giải lên đến hàng trăm nanomet hoặc thậm chí cao hơn, đặc biệt thích hợp để tạo ra các bề mặt siêu cấu trúc với hình dạng ba chiều phức tạp (như mảng cột nano dị hướng).

Ứng dụng: Lý tưởng cho việc nghiên cứu và phát triển các bề mặt siêu cấu trúc 3D tiên tiến, phức tạp.

Nhu cầu điều tiết cấu trúc bước sóng dưới của bề mặt siêu cấu trúc, đặt ra yêu cầu gần như khắc nghiệt đối với thiết bị in thạch bản.3 chiều NanoscribeThiết bị Quantum X-series có thể dễ dàng điều khiển các cấu trúc phức tạp như bề mặt tự do, mảng nhiễu xạ và điều khiển độ nhám bề mặt ≤10nm bằng cách kiểm soát quy mô tính năng ngang ba chiều 160nm. Lõi của nó 2GL ® Công nghệ kết hợp hiệu quả cao của in thạch bản màu xám với độ chính xác của quá trình trùng hợp photon kép, thông qua tốc độ 1 MHz điều chỉnh năng lượng laser một cách động, để đạt được sản xuất xuyên chiều từ nano đến trung bình, hoàn toàn phù hợp với bề mặt siêu cấu trúc đối với pha ánh sáng, biên độ điều chỉnh tốt nhu cầu.

Trong nghiên cứu khoa học tiên tiến, thiết bị này đã trở thành chìa khóa để đột phá nút thắt công nghệ. Với sự trợ giúp của bề mặt siêu cấu trúc băng thông rộng do nó sản xuất, một nhóm đã giải quyết thành công mâu thuẫn vốn có của "phạm vi đo lường và độ phân giải" trong công nghệ đồng tập trung phân tán, làm cho độ phân giải ngang trong phạm vi trục 100 micron ổn định ở 1 micron và tăng hiệu suất 2,5 lần. Trong lĩnh vực cảm biến sinh học, các nhà nghiên cứu đã sử dụng khả năng xử lý tích hợp của họ để in ra các cảm biến tích hợp cấu trúc siêu kỵ nước và các thành phần nano-photon, tăng độ nhạy phát hiện virus lên 0,1 TCID50/mL và rút ngắn thời gian phát hiện xuống còn 15 phút.

Bài viết cuối cùng:

Bài viết tiếp theo:Nanoscribe 3D Nanoscribe: Giải pháp chính xác cao cho việc đóng gói Photon