Máy phát triển là thiết bị cốt lõi trong quá trình in thạch bản, vai trò cốt lõi của nó là "tiềm ẩn" (không thể nhìn thấy bằng mắt thường) được hình thành sau khi tiếp xúc với keo quang bề mặt wafer, thông qua hành động hóa học chuyển thành đồ họa mạch tốt có thể nhìn thấy rõ ràng, là liên kết quan trọng giữa "phơi sáng" và "khắc" trong sản xuất chip bán dẫn, sản xuất linh kiện điện tử chính xác.

Quy trình làm việc của máy phát triển có thể được đơn giản hóa thành ba bước: đầu tiên, chuyển wafer sau khi phơi sáng đến buồng phát triển; Sau đó, bằng cách phun hoặc ngâm, chất lỏng phát triển sẽ tác động đồng đều lên bề mặt wafer, hòa tan một cách chọn lọc keo quang không phơi sáng (position) hoặc phơi sáng (negative glue), để tiềm ẩn xuất hiện; Cuối cùng, sau khi làm sạch để loại bỏ chất lỏng phát triển còn lại, sấy khô và bảo dưỡng, tạo thành một cơ sở đồ họa mạch ổn định.

Cấu trúc cốt lõi của nó bao gồm hệ thống truyền tải (đảm bảo truyền tải chính xác và trơn tru của wafer), hệ thống phát triển (kiểm soát nhiệt độ chất lỏng phát triển, nồng độ và thời gian hoạt động), hệ thống làm sạch và sấy khô (cải thiện độ ổn định đồ họa) và hệ thống điều khiển (đạt được điều khiển chính xác tự động). Khi quá trình sản xuất chip được đẩy lên 3nm trở xuống, máy phát triển đang hướng tới độ chính xác cao hơn, hiệu quả cao hơn và thông minh hơn, cung cấp hỗ trợ cốt lõi cho việc thu nhỏ, mật độ cao của ngành công nghiệp bán dẫn.