Trong các lĩnh vực như chất bán dẫn, xử lý vi nạp, lớp phủ quang học và vật liệu năng lượng mới, việc chuẩn bị màng chất lượng cao là nền tảng cho hiệu suất của thiết bị. Hệ thống lắng đọng hơi hóa học tăng cường plasma, nhờ hiệu ứng tăng cường plasma của nó, đạt được sự lắng đọng hiệu quả cao của màng chất lượng cao ở nhiệt độ tương đối thấp, đã trở thành thiết bị xử lý quan trọng trong sản xuất tiên tiến và R&D.

　　Hệ thống PECVDCốt lõi của công nghệ là sử dụng hoạt động của plasma. Một số lượng lớn các ion, electron và gốc tự do hoạt động cao được tạo ra bằng cách kích thích khí phản ứng (tiền chất) vào trạng thái plasma trong buồng chân không. Các nhóm hoạt động này làm giảm đáng kể năng lượng kích hoạt cần thiết cho các phản ứng hóa học, do đó mang lại hai lợi thế cốt lõi:

1, Khả năng lắng đọng nhiệt độ thấp: So với CVD nhiệt truyền thống đòi hỏi hàng trăm độ C hoặc thậm chí hàng nghìn độ nhiệt độ bề mặt, quá trình PECVD thường có thể đạt được sự lắng đọng của màng ở vài trăm độ C hoặc thậm chí nhiệt độ thấp hơn. Đặc tính này cho phép nó được sử dụng rộng rãi trong các chất nền không chịu được nhiệt độ cao, chẳng hạn như polymer nhựa, chip đã hoàn thành mạch kim loại hóa, cũng như chất nền điện tử linh hoạt, v.v., mở rộng đáng kể kịch bản ứng dụng.

2. Chất lượng phim tuyệt vời với các đặc tính có thể điều chỉnh: Bộ phim được chuẩn bị bởi PECVD có các tính năng như dày đặc, đồng nhất, độ bám dính mạnh và độ che phủ tốt của các bước. Bằng cách kiểm soát chính xác các thông số như công suất plasma, áp suất không khí, tỷ lệ lưu lượng khí và nhiệt độ, ứng suất, chỉ số khúc xạ, tính chất điện (như hằng số điện môi) và tỷ lệ đo hóa học của màng có thể được điều chỉnh hiệu quả để đáp ứng nhu cầu ứng dụng đa dạng.

Hệ thống PECVD có thể được sử dụng để chuẩn bị một loạt các bộ phim chức năng, bao gồm nhưng không giới hạn ở:

1, màng silicon nitride: Là lớp thụ động tuyệt vời, lớp che và lớp điện môi, nó được sử dụng rộng rãi trong mạch tích hợp và pin mặt trời.

2, Silica phim: như một lớp phương tiện truyền thông cách nhiệt thường được sử dụng.

3, Màng silicon vô định hình/vi tinh thể: được sử dụng cho bóng bán dẫn màng mỏng và pin mặt trời màng mỏng.

4, Kim cương giống như phim carbon: Đối với lớp phủ bảo vệ chống mài mòn, giảm ma sát.

Hệ thống PECVD kết hợp thành công tỷ lệ lắng đọng hiệu quả cao, chất lượng phim tuyệt vời với điều kiện xử lý nhẹ nhàng. Sự xuất hiện của nó, là một bước nhảy vọt lớn trong công nghệ chuẩn bị phim, cung cấp hỗ trợ kỹ thuật mạnh mẽ cho sự phát triển của ngành công nghiệp công nghệ cao hiện đại.