Hai photon ba chiều

Kích thước tính năng tối thiểu theo chiều ngang (nm)

XY ≤80

XY ≤80

XY ≤50

Chu kỳ/độ phân giải tối thiểu theo chiều ngang (nm)

XY ≤300

XY ≤300

XY ≤200

Độ chính xác mối nối (nm)

≤ 200

Độ nhám bề mặt cao nhất (nm)

≤5

Lưu ý: Các giá trị trên chỉ là một phạm vi điển hình cho mỗi tham số, các giá trị không giới hạn. Ví dụ: kích thước tính năng nhỏ nhất xy ≤80nm, kích thước tính năng nhỏ nhất thực tế có thể đạt được là dưới 80nm.

Các tính năng và cấu hình đặc trưng (× - Máy tiêu chuẩn không bao gồm, √ - Cấu hình máy tiêu chuẩn, ○ Có thể bổ sung)

MPD-100 Dòng phụ

MPD-1000 Dòng phụ

MPD-2000 Dòng phụ

Độ chính xác cao Focus Finding

Độ chính xác ≤25nm, tương thích với silicon, thủy tinh, sapphire và các chất nền trong suốt/mờ khác

√

√

√

Tiêu điểm/điều chỉnh quang sai

×

○

√

3D đồng tập trung

×

○

○

Căn chỉnh 3D

×

○

○

Xem thử đa tham chiếu

√

√

√

Chức năng kịch bản

√

√

√

Chiến lược thông minh

1. Hồ sơ/vỏ - điền;
2. Chế độ chuỗi tùy ý/tùy chỉnh
3. Điều chỉnh điểm tiêu cự động (mức xám)
4. Cắt lớp thích ứng
5. Chế độ gia công vector

√

√

√

Vật cố/Lót

1. Bao gồm nhưng không giới hạn ở kim loại, thủy tinh (thạch anh), sapphire, silicon chip, vv
2. Tương thích với nhiều chế độ cố định nền: bảng hấp phụ, kẹp, hút từ
3. Phù hợp/tùy chỉnh fiber fiber fiber fiber fiber fixture

√

√

√

Giám sát mặt tiêu cự

√

√

√

Giám sát năng lượng

√

√

√

Chức năng trợ năng

Điểm neo, đo lường, đánh dấu, bù nghiêng, xoay, v.v.

√

√

√

Photoclate/Vật liệu

1. Tự nghiên cứu keo quang kép, HBP, PPI-Dip, HBO-2, v.v.
2. Tương thích với bên thứ ba dual photonic; Vật liệu bảo dưỡng ánh sáng khác bao gồm nhưng không giới hạn ở dòng AZ, dòng SU8
3. Hỗ trợ in vật liệu hydrogel tương thích sinh học
4. Hỗ trợ kính, PDMS và tất cả các loại keo quang phía trước

√

√

√

Chức năng mở rộng 1: Tự động tiêm keo

○

○

○

Chức năng mở rộng 2: Đồng tập trung huỳnh quang

×

○

○

Chức năng mở rộng 3: Mở rộng đa kênh

○

√

√

Thông tin cấu hình phần cứng (× - Máy tiêu chuẩn không bao gồm, √ Cấu hình máy tiêu chuẩn, ○ Có thể bổ sung)

MPD-100 Dòng phụ

MPD-1000 Dòng phụ

MPD-2000 Dòng phụ

Hệ thống tập trung

Tiêu chuẩn: tỷ lệ bội số tổng hợp 66 lần, NA 1.42。 (Tỷ lệ và nhu cầu khác có thể tùy chỉnh)

Laser femto giây

Bước sóng trung tâm: 515nm/780nm (tùy chọn)
Công suất trung bình: ≥1W
Độ rộng xung: ≤200fs
Tần số lặp lại: 80MHz

Bảng dịch chuyển

XYZ行程： 100mm × 100mm × 25mm

Trục Z chính xác cao

Hành trình: 75μm; Độ chính xác: ≤10nm

Hệ thống điều khiển nhiệt độ

○

Hệ thống kiểm soát nhiệt độ môi trường, độ chính xác ± 0,1 ℃ (giá trị cơ sở nhiệt độ và phòng thí nghiệm bên ngoài giống nhau, phòng thí nghiệm bên ngoài cần đảm bảo độ ổn định nhiệt độ tốt hơn ± 1 ℃)

Hệ thống cách ly rung

○

Cấu hình hệ thống cách ly rung động chủ động/thụ động đa giai đoạn

Điều kiện cài đặt (sau đây là điều kiện khuyến nghị, các thông số chi tiết hơn có thể được liên lạc với nhà sản xuất)

MPD-100 Dòng phụ

MPD-1000 Dòng phụ

MPD-2000 Dòng phụ

Điều kiện điện

Điều kiện cung cấp

Dây điện 6 bình phương, 220V, 50Hz, 16A

Công suất đỉnh/Công suất hoạt động

4 kW / 1 kW

8 kW / 4 kW

Điều kiện môi trường

Ánh sáng màu vàng, 10.000 lớp trở lên phòng sạch, lớp cách ly rung động được ưu tiên hơn VC-C, nhiệt độ phòng thí nghiệm bình thường, khuyến nghị 21-23 ℃

Khí nén

Không bắt buộc, chỉ cho cách ly rung động chủ động và bảng hấp phụ

Khu vực sử dụng được đề xuất

2m × 2m

Kích thước tổng thể

Cơ thể thiết bị (mm, W × D × H)

785×940×720

1300 × 1300 × 2200 (không bao gồm mô-đun nhiệt độ 1900)

Tủ (mm, W × D × H)

620×800×1600

620×800×1600

Tổng trọng lượng (kg)

＜600

＜1200