Chất tham chiếu tiêu chuẩn siêu tinh khiết Silica Fume

Bắc Kinh Huaxin Kangxin Công nghệ sinh học Công ty TNHH Thương hiệu NIST. Bắc Kinh Huaxin Kangxin Công nghệ sinh học Công ty TNHH là đại lý thương hiệu NIST.

Chất tham chiếu tiêu chuẩn siêu tinh khiết Silica FumeLượng lớn hàng hiện có, hoan nghênh chọn mua, hợp tác cùng thắng.

NIST Tin tức

Bắc Kinh Huaxin Kangxin Công nghệ sinh học Công ty TNHH tập trung vào lĩnh vực khoa học đời sống, được thành lập bởi đội ngũ kỹ thuật và đội ngũ quản lý có kinh nghiệm thực hành phong phú, chủ yếu kinh doanh thuốc thử hóa sinh, dụng cụ, vật tư tiêu hao thí nghiệm, v.v.

1 Phạm vi rộng của lĩnh vực bức xạ sản phẩm, thuốc thử, vật tư tiêu hao, dụng cụ, vv

2. Các loại sản phẩm đầy đủ, Bắc Kinh Hoa Tân Khang Tín hợp tác nhiều lĩnh vực khoa học sự sống với nước ngoài,

Theo sát sự phát triển của khoa học đời sống, không ngừng đáp ứng nhu cầu của khách hàng, góp một viên gạch vào con đường nghiên cứu khoa học của các vị!

3 Nguồn cung cấp, lợi thế rõ ràng về giá

4 Danh tiếng tốt, phạm vi khách hàng rộng, bao gồm hơn 100 trường đại học như Thanh Hoa, Bắc Đại, Giao Đại, Phục Đán, Trung Sơn, ngành dược Bách Thái, Khang Long Hóa Thành, Dược Minh Khang Đức......

Chào mừng đến với cuộc gọi.

NIST SRM 640g được phát triển bởi Viện Tiêu chuẩn và Công nghệ Quốc gia Hoa Kỳ (NIST).Chất tham chiếu tiêu chuẩn siêu tinh khiết Silica FumeKhối lượng, chủ yếu được sử dụng để hiệu chuẩn máy nhiễu xạ bột tia X (XRD), là một chuẩn mực quan trọng trong phân tích cấu trúc tinh thể trong các lĩnh vực khoa học vật liệu, chất bán dẫn và hóa chất.

Thông số cốt lõi và sử dụng

Sử dụng chính: Là tiêu chuẩn cho vị trí đường nhiễu xạ (góc 2θ) và hình dạng đường (chiều rộng đỉnh) để hiệu chuẩn và xác minh hiệu suất của thiết bị XRD.

Thông số kỹ thuật: Khoảng 7,5 g mỗi chai, được đóng gói trong môi trường argon, ngăn ngừa độ ẩm và ô nhiễm.

Nguồn nguyên liệu‌: Được làm từ các thỏi silicon bản địa có độ tinh khiết cực cao được cung cấp bởi Siltronic AG của Đức, được nghiền nát, nghiền bằng máy bay phản lực đến kích thước hạt trung bình ‌4,1 μm và ủ trong 2 giờ trong khí argon 1000 ℃ để loại bỏ căng thẳng mạng.

Giá trị được chứng nhận ‌ 0,5431144 nm ± 0,000008 nm ở 22,5 ℃, với độ chính xác cao và có thể so sánh.

Tính đồng nhất ‌: Phân tích XRD cho thấy vật liệu có tính đồng nhất cao về các đặc tính nhiễu xạ, với sự thay đổi mạng tương đối ≤ ± 4,8 × 10 ⁻ ⁸ (khoảng tin cậy 95%).

Thông số kỹ thuật sử dụng và lưu trữ

Thiết bị áp dụng: Thiết bị XRD phù hợp với hình học Bragg-Brentano có thể được hiệu chuẩn theo góc 2θ và chiều rộng nửa chiều cao (FWHM) bằng phương pháp tham số cơ bản hoặc Pawley Refining.

Điều kiện bảo quản: cần được bảo quản ở nhiệt độ môi trường xung quanh, phần không sử dụng phải được niêm phong trong chai gốc, bảo vệ chống lại khí argon, tránh ô nhiễm hoặc ẩm ướt.

Thời hạn hiệu lực: Trong phạm vi không chắc chắn theo quy định, chứng nhận có hiệu lực không giới hạn, không cần phải tái chứng nhận định kỳ, nhưng nếu vật liệu bị hư hỏng, ô nhiễm hoặc xử lý không đúng cách, chứng nhận sẽ mất hiệu lực.

Thông tin mở rộng

Tiêu chuẩn này cũng cung cấp các giá trị thông tin như Full Width Half Max (FWHM) của phân phối Lorentz để đánh giá hiệu ứng mở rộng do mẫu gây ra, tương ứng với kích thước miền có trọng số thể tích trung bình khoảng 0,4 µm. Ngoài ra, phân bố kích thước hạt được xác định bằng tán xạ laser, với kích thước hạt trung bình điển hình là 4,1 μm.