Chào mừng khách hàng!

Trợ giúp

instrumentb2bNanoscribe phát hành hệ thống in thạch bản không mặt nạ chính xác cao cấp công nghiệp mới

Cấu hình Quantum X Shape:
Xác định lại độ chính xác cao, năng suất cao, cảm giác trải nghiệm

Hệ thống hình Quantum X mới là thiết bị thứ hai trong dòng sản phẩm nền tảng Quantum X của Nanoscribe, cho phép in bất kỳ cấu trúc nào trên diện tích 25 cm², thúc đẩy đáng kể việc tạo mẫu nhanh chóng cho các ứng dụng phức tạp trong khoa học đời sống, vi chất lỏng và kỹ thuật vật liệu. Quantum X Shape hoạt động như một hệ thống in thẳng đứng với khả năng phân phối tự động của nhựa nhạy sáng, lý tưởng cho sản xuất gia công hàng loạt công nghiệp tiêu chuẩn 6 inch.

Là một hệ thống in 3D có độ chính xác cao mới được Nanoscribe giới thiệu, Quantum X Shape được sử dụng để tạo mẫu nhanh và sản xuất hàng loạt cấp wafer để khai thác đầy đủ tiềm năng của chế biến vi nạp 3D trong nghiên cứu khoa học và sản xuất công nghiệp. Hệ thống này là một hệ thống viết thẳng laser chuyên nghiệp dựa trên công nghệ trùng hợp photon kép (2PP) cung cấp quyền tự do thiết kế * cho việc xử lý vi nạp của các vật thể 2,5D và 3D với độ chính xác dưới micron. Quantum X Shape cho phép xử lý vi nạp 3D chính xác cao trên một tấm wafer 6 inch. Sự gia tăng hiệu quả này đặc biệt quan trọng đối với sản xuất hàng loạt cấp wafer, có ý nghĩa lớn đối với các ứng dụng trong nghiên cứu khoa học và sản xuất công nghiệp. Nói chung, hệ thống này mở rộng khả năng ứng dụng vi nạp 3D trong nhiều lĩnh vực nghiên cứu khoa học và công nghiệp (ví dụ: khoa học đời sống, kỹ thuật vật liệu, vi chất lỏng, quang học vi nạp, vi cơ khí và hệ thống cơ khí vi điện tử (MEMS), v.v.).

csm_QX-shape-Printer-News_b02b3782d0_副本.jpg

Đạt được độ chính xác cao nhất để sản xuất công nghệ vi nạp 3D

Duplex Photon Aggregation (2PP) là một phương pháp sản xuất phụ gia có thể đạt được độ chính xác cao nhất và * tự do thiết kế. Hệ thống vi xử lý 3D tốt nhất, Quantum X Shape, có các tính năng tuyệt vời sau:

  • * Kiểm soát kích thước tính năng thấp tới 100 nanomet theo mọi hướng không gian, thích hợp cho in kích thước nano và micron

  • * Tạo cấu trúc mục tiêu lên đến 50 mm cho in cỡ trung bình

Tối ưu hóa cân bằng độ chính xác và tốc độ để tăng sản lượng

Hệ thống xử lý vi nạp 3D tốc độ cao Quantum X Shape cho phép độ chính xác hình dạng tuyệt vời và độ chính xác cao. Hiệu ứng in chất lượng cao này là kết quả của sự kết hợp giữa hệ thống rung gương công nghệ cao và bộ điều khiển hệ thống điện tử thông minh, đồng thời không thể tách rời khỏi laser xung femto giây cấp công nghiệp cũng như nền tảng vận hành đá granit trơn tru và mạnh mẽ. Quantum X Shape có điều khiển quỹ đạo lấy nét bằng laser, điều khiển tăng tốc và giảm tốc độ rung đến tốc độ quét tối ưu và tự động điều chỉnh công suất laser ở tốc độ điều chế 1 MHz.

Quantum X Shape đi kèm với tính năng tìm kiếm giao diện tự động * có thể phát hiện bề mặt chất nền với độ chính xác thấp tới 30nm. Sự thể hiện của độ chính xác nano này ở tốc độ quét cao nhất, kết hợp với quy trình tự hiệu chuẩn cho phép in đáng tin cậy và chính xác trong thời gian ngắn nhất, thiết lập một quy trình vi nạp 3D mới. Những tính năng tuyệt vời này đã làm cho Quantum X Shape trở thành nguyên mẫu nhanh và ứng dụng cho quang học vi nạp.

csm_Nanoscribe_Quantum_X_shape_Microneedles_ede2c2ebd5_12副本.jpg

Microneedling 3D được thực hiện bằng công nghệ Nanoscribe Microneedling, dễ dàng đạt được các biến thể thiết kế khác nhau với tỷ lệ khung hình cao, độ chính xác hình dạng và các cạnh sắc nét.

Quy trình làm việc đơn giản và hiệu quả cho trải nghiệm tốt nhất

Chức năng phân phối tự động của nhựa nhạy sáng rất quan trọng đối với chế biến cấp wafer và sản xuất công nghiệp sản xuất hàng loạt nhỏ. Người dùng cũng có thể kiểm soát công việc in bằng cách truy cập trực tiếp hoặc từ xa vào hệ thống in hình Quantum X thông qua màn hình cảm ứng tích hợp của thiết bị. Với phần mềm truy cập từ xa nanoConnectX, người dùng có thể xem các tùy chọn hiển thị của màn hình cảm ứng và điều khiển tất cả các chức năng, cho phép bắt đầu, giám sát và kiểm soát quá trình in ấn của hệ thống in được kết nối từ bất cứ đâu. Điều này cho phép toàn bộ các thành viên trong nhóm, chẳng hạn như tất cả các thành viên trong bộ phận hàng hóa của nhóm nghiên cứu, truy cập vào hệ thống in trên máy tính cá nhân. Giảm thiểu tối đa thời gian chuẩn bị phòng thí nghiệm, đơn giản hóa và nâng cao hiệu quả của toàn bộ quá trình chuẩn bị, thực hiện và giám sát các hoạt động in ấn và tăng cường đáng kể tinh thần đồng đội khi chia sẻ hệ thống.

Công nghệ vi nạp 3D hỗ trợ công nghệ tương lai

Quantum X Shape là công cụ tạo mẫu nhanh lý tưởng cho phép sản xuất với độ chính xác cao nhất và mức độ tự do thiết kế cao thông qua quy trình làm việc đơn giản. Là máy in thạch bản dual-photon grayscale đầu tiên (2GL) được giới thiệu vào năm 2019 ®) Cùng dòng sản phẩm Quantum X, Quantum X Shape nâng cao khả năng xử lý vi nạp 3D, có nghĩa là cân bằng tối đa độ chính xác và tốc độ để sản xuất phụ gia có độ chính xác cao để đạt được năng suất và chất lượng in cao. Tất cả đã nói, dòng hệ thống in Quantum X cấp công nghiệp cung cấp quy trình sản xuất vi mô từ cấu trúc nano đến kích thước trung tâm, thích hợp cho gia công hàng loạt cấp wafer.

Thông tin thêm về công nghệ in thạch bản không mặt nạ 3D Dual Photon và tư vấn sản phẩm

Chào mừng bạn đến liên hệ Nanoscribe Trung Quốc Chi nhánh - NANZHOU 3D Technology (Thượng Hải) Co., Ltd

Hệ thống xử lý vi nạp hai photon siêu chính xác Nanoscribe Đức:

Photonic Professional GT2 Hệ thống in thạch bản 3D không mặt nạ

Quantum X Dual Photon Grayscale Photographic Thiết bị in Microna

Quantum X Shape Hệ thống in thạch bản không mặt nạ hai photon

image.png

Tin tức mới nhất