Plasma Sputtering Coater là một phiên bản nâng cấp của công nghệ phún xạ magnetron, làm tăng đáng kể hiệu suất của màng bằng cách tăng cường mật độ plasma và tốc độ ly khai. Các quá trình cốt lõi của nó bao gồm:

• Tăng cường plasma: Sử dụng tần số vô tuyến (RF), nguồn xung hoặc xung magnetron phún xạ công suất cao (HiPIMS) để tạo ra plasma mật độ cao, ion hóa nhiều hạt phún xạ thành ion hơn.

• Ion hỗ trợ lắng đọng: Các ion năng lượng cao bắn phá tấm cơ sở, tăng cường độ dày đặc của màng, độ bám dính và giảm khuyết tật.