1. Lời mở đầu:

In thạch bản là một quá trình quan trọng trong sản xuất mạch tích hợp (IC), chiếm 40% quy trình sản xuất chip.

50% thời gian. Trong quá trình in thạch bản không chỉ cần máy in mà còn cần một vật liệu quan trọng - keo quang. Photographic là một trong những vật liệu quan trọng nhất trong ngành công nghiệp bán dẫn, chiếm khoảng 35% chi phí sản xuất chip trong toàn bộ quá trình sản xuất mạch tích hợp và là quy trình cốt lõi nhất trong sản xuất chất bán dẫn.

Photoclate là một hỗn hợp phức tạp bao gồm chủ yếu là dung môi hữu cơ, nhựa polymer, photoacid (PAG), phụ trợ. Trong đó chất photoacrylic là thành phần quan trọng của quang khắc, đóng vai trò quyết định đối với độ nhạy sáng, độ phân giải của quang khắc. Độ tinh khiết và kiểm soát tạp chất của photoacrylic có ảnh hưởng quan trọng đến tỷ lệ tốt của photoplastic và toàn bộ sản phẩm bán dẫn. Chất photoacid thường được tạo thành phần cation triphenyl sulfur và phần anion polyfluorosulfonate, trong khi phần anion về cơ bản không hấp thụ tia cực tím, máy dò sương mù điện (CAD) không phụ thuộc vào hợp chất có hoạt tính quang học, có thể được sử dụng như một máy dò lý tưởng để kiểm soát chất lượng photoacid.

Ứng dụng này sử dụng rễ trifluorobutylsulfonate làm ví dụ để khám phá tính khả thi của việc kiểm soát chất lượng CAD đối với photoacid.

Máy dò phun điện (CAD) là một loại máy dò phổ quát mới được phát triển trong những năm gần đây, phát hiện của nó không liên quan đến cấu trúc phân tử của vật liệu được thử nghiệm, vật liệu được thử nghiệm cũng không cần bị ion hóa, miễn là vật liệu được thử nghiệm thuộc về hợp chất bán dễ bay hơi hoặc không dễ bay hơi thì có thể áp dụng phát hiện CAD. Trong khi đó,

CAD là một máy dò chất lượng nhạy cảm, kích thước của giá trị phản ứng của vật liệu được đo được xác định bởi chất lượng tuyệt đối của mẫu được kiểm tra, miễn là chất lượng tuyệt đối của mẫu được kiểm tra là nhất quán, giá trị phản ứng đo được về cơ bản có xu hướng giống nhau, và có thể nhận được giới hạn phát hiện thấp hơn và độ nhạy cao hơn.

Máy dò sương mù điện (CAD) là một thành tựu khoa học và công nghệ quan trọng đạt được bởi nhóm nghiên cứu và phát triển dụng cụ Inmei sau nhiều năm nghiên cứu và thử nghiệm lặp đi lặp lại. Máy dò này sử dụng công nghệ điện và nguyên tử tiên tiến, có thể đạt được độ nhạy cao, phát hiện độ chính xác cao đối với các mẫu vi lượng.

2, Dụng cụ và vật liệu:

Thiết bị: Máy sắc ký lỏng Agilent1200+Máy dò CAD (Thiết bị Inmai, Model: CADetector a1)

Thuốc thử: nước tinh khiết (nước cất Watsons), acetonitrile (sắc ký tinh khiết), axit formic (tinh khiết phân tích) Mẫu: trifluorobutylsulfonate triphenylospermi muối.

3. Phương pháp và kết quả:

3.1 Điều kiện sắc ký:

Cột sắc ký: InfinityLab Poroshell 120 EC-C18 Nhiệt độ cột: 55 ℃ Tốc độ dòng chảy: 0,4mL/phút Mẫu: 5μL

Pha chảy A: 0,2% dung dịch nước axit formic Pha chảy B: Acetonitrile

Tẩy điều kiện gradient

Điều kiện CAD:

Mô hình dụng cụ: Inmai Instrument CADetector a1 Drift Tube Nhiệt độ: 40 ℃ Luồng khí nguyên tử: 3L/phút Dòng phân cực: 1μA Luồng khí phân cực: 1L/phút

3.2 Chuẩn bị mẫu:

Chất pha loãng: methanol, methanol-nước (1: 1) pha chế muối mẹ triphenylospermi trifluorobutylsulfonate 2000 µg/mL, hòa tan trong dung dịch methanol tinh khiết. Pha loãng nước mẹ theo từng giai đoạn bằng dung dịch methanol-nước (1: 1), được xây dựng thành các nồng độ 1, 2, 5, 10,

Một loạt các giải pháp 100 và 1000 µg/mL.

3.3 Kết quả thí nghiệm:

3.3.1 Áp dụng phương pháp

Phương pháp này trong điều kiện thời gian lưu giữ ion âm dương thích hợp, độ phân tách, đỉnh và đỉnh đều đáp ứng tốt

3.3.2 Độ nhạy phương pháp

Mẫu 1 µg/mL, mẫu 5 µL; Triphenyl sulfur đáp ứng tốt với tỷ lệ tín hiệu tiếng ồn lên đến 1097,4 (phương pháp ASTM); Rễ trifluorobutylsulfonate đáp ứng tốt với tỷ lệ tín hiệu tiếng ồn 122,9 (phương pháp ASTM)

3.3 Lặp lại

Độ lặp lại 6 chân liên tục, vùng đỉnh triphenyl sulfur là 0,880%; Khu vực đỉnh Trifluorobutylsulfonate

RSD% là 1,222%, tất cả đều dưới 2,0%, cho thấy phương pháp này được lặp lại tốt.

3.3.4 Tuyến tính

Nồng độ 1~1000 µg/mL, hệ số tương quan triphenyl sulfur R là 0,99995; Hệ số tương quan của rễ Trifluorobutylsulfonate R là 0,99976, tuyến tính tốt và phạm vi tuyến tính rộng.

4、Kết luận thí nghiệm:

Bài viết này sử dụng phương pháp HPLC-CAD để phân tích anion trong các mẫu photoacid. Chương trình này có độ nhạy cao, độ tách ion và độ lặp lại tốt, phạm vi tuyến tính rộng, có thể được sử dụng làm phương pháp đánh giá tác nhân axit quang.

Phương pháp HPLC-CAD hoạt động đơn giản, đặc tính mạnh mẽ và độ nhạy cao, có thể được sử dụng như một chất photoacid để kiểm soát chất lượng và đánh giá phương pháp.