Lớp phân tử DepositionLà một kỹ thuật chuẩn bị màng mỏng dựa trên phản ứng bề mặt tự giới hạn, một màng chức năng siêu mỏng với độ chính xác cấp nguyên tử được xây dựng trên bề mặt cơ sở bằng cách kiểm soát chính xác quá trình lắng đọng của các đơn vị phân tử theo từng lớp.Nguyên tắc cơ bản bắt nguồn từ cơ chế phản ứng tự hạn chế.Lớp phân tử DepositionCốt lõi của nó là sự phát triển của màng mỏng thông qua các phản ứng hóa học luân phiên, tự hạn chế của hai hoặc nhiều tiền chất với bề mặt cơ bản. Mỗi chu kỳ lắng đọng bao gồm ba bước chính:
1, một phân tử tiền chất được đưa vào buồng phản ứng ở dạng pha khí hoặc pha lỏng, nơi sự hấp phụ hóa học xảy ra trên bề mặt cơ sở, tạo thành một lớp phân tử đơn;
2, loại bỏ tiền chất không phản ứng và các sản phẩm phụ bằng cách thổi khí trơ;
3, Một tiền chất khác được giới thiệu và phản ứng cụ thể với phân tử đầu tiên đã được hấp thụ, tạo ra vật liệu màng mục tiêu và giải phóng các sản phẩm phụ phân tử nhỏ, một lần nữa loại bỏ các chất dư thừa bằng cách thổi.
Quá trình này lặp đi lặp lại, mỗi vòng phản ứng chỉ diễn ra ở các vị trí hoạt động bề mặt chưa bão hòa và phản ứng tự động chấm dứt khi tất cả các vị trí hoạt động được chiếm đóng, do đó đảm bảo rằng mỗi vòng chu kỳ chỉ lắng đọng một lớp hoặc một số lớp phân tử cố định, đạt được điều chỉnh chính xác độ dày lắng đọng.
Đặc tính kỹ thuật thứ hai làm nổi bật lợi thế. Cơ chế phản ứng tự giới hạn mang lại khả năng kiểm soát độ dày cao hơn. Bằng cách thiết lập chính xác số chu kỳ, có thể đạt được sự chuẩn bị tùy chỉnh của lớp phân tử đơn đến màng cỡ hàng trăm nanomet, độ lệch độ dày được kiểm soát trong một phạm vi cực nhỏ. Khả năng phổ quát của công nghệ này đối với vật liệu cơ bản là mạnh mẽ, cho dù đó là cơ sở phẳng hay cấu trúc ba chiều phức tạp, các vị trí hoạt động bề mặt có thể tham gia vào phản ứng để đảm bảo rằng bộ phim được phủ đều.
Ngoài ra, nó có thể được thực hiện trong điều kiện ôn hòa, tránh sự phá hủy của vật liệu cơ bản hoặc ổ đĩa phía trước bởi nhiệt độ và áp suất cao, thích hợp cho các vật liệu nhạy cảm có yêu cầu ổn định nhiệt cao. Bằng cách lựa chọn các kết hợp tiền thân khác nhau, có thể chuẩn bị một loạt các bộ phim chức năng để đáp ứng nhu cầu hiệu suất trong các lĩnh vực khác nhau.
3. Ứng dụng tiềm năng thúc đẩy phát triển công nghệ.Lớp phân tử DepositionTriển vọng rộng mở được thể hiện trong các lĩnh vực tiên tiến như lớp cách điện vi điện tử, lớp phủ chống ăn mòn, màng tách khí và sửa đổi điện cực lưu trữ năng lượng. Khả năng kiểm soát cấp phân tử chính xác và khả năng phù hợp vật liệu rộng rãi của nó cung cấp hỗ trợ cốt lõi cho sự phát triển tùy biến của màng chức năng, là một phương tiện công nghệ quan trọng để thúc đẩy sự đổi mới trong lĩnh vực khoa học vật liệu và kỹ thuật.