Máy phủ tấm loại sưởi chủ yếu được sử dụng để phủ vật liệu đồng đều trên bề mặt chất nền và cải thiện hiệu suất lớp phủ bằng cách sưởi ấm. Nó phù hợp với vật liệu bán dẫn, linh kiện điện tử, màng quang học và các lĩnh vực khác.
Nguyên tắc làm việc của máy phủ tấm loại sưởi ấm chủ yếu dựa trên công nghệ composite ép nóng, áp dụng đồng đều vật liệu phủ lên bề mặt của chất nền bằng con lăn ép nóng hoặc tấm ép nóng và sử dụng nhiệt để kích hoạt chất kết dính hoặc cải thiện độ bám dính của lớp phủ.
Máy phủ tấm loại sưởi ấm thêm mô-đun điều khiển nhiệt độ trên cơ sở máy phủ thông thường. Những lợi thế chính được phản ánh trong 3 điểm sau:
Kiểm soát nhiệt độ chính xác nâng cao chất lượng lớp phủ: cơ sở tấm có thể đạt được kiểm soát nhiệt độ chính xác từ nhiệt độ phòng đến 300 ℃ (một số mô hình nhiệt độ cao cao hơn), tránh vật liệu phủ do biến động nhiệt độ xuất hiện bong bóng, treo dòng chảy hoặc bảo dưỡng không đồng đều, đặc biệt thích hợp cho quá trình phủ nhạy cảm với nhiệt độ (chẳng hạn như photoxelate, bùn dẫn điện).
Tăng tốc bảo dưỡng rút ngắn chu kỳ sản xuất: chức năng sưởi ấm có thể tác động trực tiếp lên chất nền phủ, đẩy nhanh phản ứng bảo dưỡng của vật liệu phủ (như nhựa, chất kết dính), so với bảo dưỡng tự nhiên hoặc lò nướng bên ngoài, có thể tiết kiệm hơn 50% thời gian chờ đợi, nâng cao hiệu quả sản xuất.
Tăng cường độ bám dính của lớp phủ: bằng cách gia nhiệt làm cho cấu trúc vi mô bề mặt cơ sở dễ dàng kết hợp với vật liệu phủ, giảm khoảng trống giao diện, nâng cao đáng kể khả năng chống mài mòn, chống trầy xước và chống bong tróc của lớp phủ, thích hợp cho các tình huống yêu cầu độ bám dính cao như bảo vệ linh kiện điện tử, phủ tấm pin, v.v.
Đặc điểm kỹ thuật
Hệ thống sưởi khô
Sưởi ấm dưới cùng: Lớp phủ được làm nóng trực tiếp bằng tấm sưởi ấm, phạm vi nhiệt độ thường là nhiệt độ phòng đến 150 ℃, tính đồng nhất ± 3 ℃, bùn có thể được sấy khô nhanh chóng để tránh khuyết tật san lấp mặt bằng.
Hệ thống sưởi nền tảng: Thích hợp cho các chất nền cứng (như thủy tinh), nhiệt độ có thể đạt 200 ℃, đáp ứng nhu cầu phủ nhiệt độ cao.
Hệ thống sưởi hồng ngoại: Sử dụng lớp phủ sưởi ấm đồng bộ ống hồng ngoại, hiệu quả sấy cao và chất lượng rõ ràng.
Quá trình phủ đa dạng
Hỗ trợ nhiều quy trình như phủ scraper, phủ thanh dây, phủ đùn khe, phủ phim bốn mặt, tương thích với các vật liệu có độ nhớt khác nhau (như bùn pin lithium ion, bùn gốm, keo, v.v.).
Độ chính xác của lớp phủ lên đến ± 2μm, dao cạo có thể điều chỉnh phạm vi 0,01-3,5mm để đáp ứng nhu cầu chuẩn bị phim.
Tự động hóa và thông minh hóa
Bộ điều khiển nhiệt độ hiển thị kỹ thuật số, độ chính xác ± 1 ℃, có thể tự do đặt thời gian sấy và đường cong nhiệt độ.
Công tắc đột quỵ hỗ trợ điều chỉnh đột quỵ 10-250mm, tốc độ phủ 0-120mm/giây có thể điều chỉnh, thích ứng với các kích thước khác nhau của chất nền.
Thiết kế đĩa nhôm chân không, nhanh chóng hấp thụ chất nền, ngăn chặn sự dịch chuyển trong quá trình phủ.
An toàn và thân thiện với môi trường
Buồng sưởi kín ngăn ngừa sự lây lan bay hơi của dung môi và được trang bị hệ thống lọc carbon hoạt tính để hấp thụ các chất bay hơi hữu cơ.
Công tắc dừng khẩn cấp và chức năng báo động quá nhiệt độ để đảm bảo hoạt động an toàn.