Chào mừng khách hàng!

Thành viên

Trợ giúp

Qingdao Tianren Micro Nano Technology Co., Ltd
Nhà sản xuất tùy chỉnh

Sản phẩm chính:

instrumentb2b>Bài viết

Qingdao Tianren Micro Nano Technology Co., Ltd

  • Thông tin E-mail

    dawei.wang@germanlitho.com

  • Điện thoại

    18612023280

  • Địa chỉ

    Tòa nhà 6, Khu công nghiệp khoa học và công nghệ tương lai Thanh Đảo, 106 Xiangyang Road, Quận Chengyang, Thanh Đảo

Liên hệ bây giờ
Quá trình xử lý lưới sáng phá vỡ giới hạn hiệu suất lưới truyền thống
Ngày:2025-09-14Đọc:0
  Quá trình gia công Shining GratingNó là công nghệ cốt lõi để chuẩn bị lưới nhiễu xạ hiệu suất cao. Nó đạt được sự tập trung định hướng của năng lượng ánh sáng bằng cách khắc rãnh răng cưa theo chu kỳ với độ nghiêng cụ thể trên bề mặt vật liệu cơ bản, kết hợp các tính năng như hiệu quả nhiễu xạ cao, lựa chọn bước sóng chính xác và khả năng kiểm soát quy trình mạnh mẽ. Nó được sử dụng rộng rãi trong phân tích quang phổ, công nghệ laser và quan sát thiên văn và các lĩnh vực quang học khác. Nó là một quá trình quan trọng để phá vỡ giới hạn hiệu suất của lưới truyền thống. ​
Hiệu suất nhiễu xạ cao và ánh sáng định hướng là lợi thế kỹ thuật cốt lõi của nó. Lưới phẳng truyền thống tồn tại vấn đề phân tán năng lượng ánh sáng trên mỗi lớp nhiễu xạ, trong khi quá trình xử lý lưới sáng làm tăng đáng kể việc sử dụng ánh sáng bằng cách kiểm soát chính xác góc sáng của rãnh (thường là 1 ° -30 °). Trong máy quang phổ, lưới sáng được chuẩn bị bằng quy trình này có thể tăng cường đáng kể cường độ tín hiệu của bước sóng mục tiêu, làm cho việc phát hiện phổ của các chất vi lượng nhạy hơn; Trong hệ thống điều chỉnh laser, bằng cách tối ưu hóa thiết kế góc sáng, có thể đạt được đầu ra hiệu quả cao và điều chỉnh chính xác các bước sóng laser cụ thể. ​

闪耀光栅加工

Phối hợp đa công nghệ và kiểm soát độ chính xác cao thể hiện sức mạnh kỹ thuật. Theo các vật liệu cơ bản (thủy tinh, kim loại, chất bán dẫn) và nhu cầu ứng dụng khác nhau, quá trình xử lý lưới lấp lánh có thể được chia thành phương pháp ghi cơ học, phương pháp khắc chùm tia ba chiều-ion, phương pháp viết laser trực tiếp, v.v. Phương pháp khắc cơ khí được khắc theo dòng trên cơ sở bằng công cụ cắt kim cương, độ chính xác rãnh có thể đạt đến cấp độ nano, thích hợp để chuẩn bị lưới kích thước lớn; Holographic - phương pháp khắc chùm ion sử dụng các sọc giao thoa để tạo thành mô hình khắc, sau đó thông qua việc khắc định hướng chùm ion để tạo thành cấu trúc lấp lánh, thích hợp cho sản xuất hàng loạt lưới có độ chính xác cao. Cả hai quá trình có thể đạt được sự kiểm soát chính xác của chu kỳ rãnh (0,5 μm-100 μm) và góc sáng, và lỗi có thể được kiểm soát trong vòng 0,1 °. ​
Môi trường phức tạp thích ứng mở rộng biên giới ứng dụng. Lưới sáng được chuẩn bị bởi quá trình này, bề mặt có thể được mạ nhôm, vàng và các màng kim loại khác hoặc màng trung bình, tăng cường khả năng chống mài mòn và chống ăn mòn, phù hợp với môi trường làm việc khắc nghiệt như nhiệt độ cao và độ ẩm cao. Trong máy quang phổ của kính viễn vọng thiên văn, màng kim loại có thể chịu được sự dao động của bức xạ và nhiệt độ trong môi trường không gian; Trong thiết bị kiểm tra trực tuyến công nghiệp, lưới tản nhiệt màng trung bình có thể chống lại bụi và xói mòn khí hóa học, đảm bảo hoạt động ổn định lâu dài. ​