Đa Photon Polymer PhotoclateMultiphoton Polymerization Photoresist là một vật liệu nhạy sáng đặc biệt được thiết kế đặc biệt để xử lý vi nạp ba chiều bằng laser femto giây. Polyphotonic polymer được thiết kế đặc biệt để xử lý vi nạp ba chiều bằng laser femto giây, các chỉ số hiệu suất chính cần được tích hợp để đảm bảo độ chính xác, hiệu quả và khả năng phù hợp ứng dụng khi lựa chọn.

Ứng dụng Scene:

‌ Y sinh học: vi mạch điều khiển dòng chảy, hỗ trợ bionic sản xuất, tránh độc tính sinh học của chất kích hoạt ánh sáng; ‌

‌ Thiết bị quang tử: tinh thể quang tử ba chiều, xử lý mảng vi thấu kính;

Máy móc chính xác: Các thành phần được viết thẳng, hỗ trợ các cấu trúc treo phức tạp.

Tiêu chí lựa chọn chỉ số hiệu suất chính:

‌ Độ phân giải: Quyết định kích thước tính năng tối thiểu (thường yêu cầu mức 100nm) và độ phân giải cao hỗ trợ sản xuất các cấu trúc phức tạp hơn (như microlenses hoặc tinh thể photon); Nhưng cần cân nhắc chi phí và tính năng, tránh đầu tư quá mức. ‌

Độ nhạy: phản ánh độ nhạy cảm với năng lượng phơi sáng, độ nhạy cao có thể làm giảm liều phơi sáng laser và nâng cao hiệu quả xử lý; Nhưng cần chú ý độ nhạy cao có thể làm tăng độ nhạy cảm môi trường. ‌

‌ Độ tương phản: ảnh hưởng đến độ sắc nét của các cạnh của mẫu, độ tương phản cao (gần 90 ° bên tường) làm giảm độ mờ đường và tăng độ chính xác của cấu trúc. ‌

‌ Hiệu suất phát triển: đảm bảo loại bỏ các khu vực không tiếp xúc và giảm dư lượng; Khi lựa chọn nên chú ý đến tốc độ phát triển và tính đồng nhất. ‌

Tính chất cơ học: bao gồm độ cứng, độ dẻo dai và độ bền kéo, ngăn ngừa biến dạng hoặc nứt xảy ra trong lớp phủ hoặc chế biến. ‌

Kháng hóa chất và ổn định nhiệt: chịu được chất ăn mòn, chất tẩy rửa và xử lý nhiệt độ cao (như nướng), tránh biến dạng đồ họa; Sự ổn định nhiệt đặc biệt quan trọng đối với môi trường laser năng lượng cao, nơi polymer đa photon xảy ra. ‌

Độ tinh khiết: Nội dung tạp chất cần được kiểm soát chặt chẽ ở mức ppb, độ tinh khiết cao làm giảm nguy cơ khuyết tật vi mô.