Nguyên tắc kỹ thuật:

Công nghệ nguồn điện tử
Súng điện tử bắn từ trường cơ sở Short hoặc trường nhiệt được sử dụng để tách các electron kim loại ra khỏi liên kết bằng điện trường mạnh, tạo thành chùm electron có độ sáng cao, độ kết hợp cao. Độ sáng của nó vượt xa súng điện tử bắn nhiệt truyền thống, đường kính chùm tia có thể nhỏ hơn 1 nm, nâng cao đáng kể độ phân giải hình ảnh.

Hệ thống quang điện tử
Chùm electron được tập trung qua thấu kính điện từ và sau khi bị lệch hướng tạo thành đầu dò nhỏ, quét từng dòng trên bề mặt mẫu, tạo ra tín hiệu điện tử thứ cấp, điện tử tán xạ ngược và các tín hiệu khác. Những tín hiệu này được máy dò thu thập và xử lý để tạo ra hình ảnh phản ánh hình dạng, thành phần của mẫu.

Hệ thống hút chân không
Duy trì môi trường chân không cao, ngăn ngừa tán xạ chùm tia điện tử và ô nhiễm mẫu, đảm bảo sự ổn định tín hiệu. Một số mô hình hỗ trợ chế độ chân không thấp, cho phép quan sát trực tiếp các mẫu có chứa nước hoặc không dẫn điện.

Máy tính để bàn Field Launch Scan MirrorCác thông số hiệu suất:

Độ phân giải: Độ phân giải hình ảnh điện tử thứ cấp lên tới 1,0nm, một số mô hình vẫn có thể duy trì độ phân giải 1,4nm ở điện áp thấp (1kV), phù hợp để quan sát các mẫu cách nhiệt hoặc chùm tia điện tử nhạy cảm.

Độ phóng đại: có thể lên đến 1 triệu lần, bao gồm các yêu cầu phân tích từ hình dạng vĩ mô đến cấu trúc nano.

Điện áp tăng tốc: Phạm vi thường là 0,2-30kV, hỗ trợ hình ảnh điện áp thấp để giảm thiệt hại mẫu.

Máy dò: Máy dò điện tử thứ cấp (SE), Máy dò điện tử tán xạ lưng (BSE) và Máy quang phổ năng lượng (EDS) được trang bị tiêu chuẩn để quan sát hình dạng và phân tích nguyên tố đồng bộ.

Bàn mẫu: Hỗ trợ mẫu kích thước lớn, một số mô hình được trang bị chức năng xoay nghiêng để đạt được quan sát đa góc.