Chào mừng khách hàng!

Thành viên

Trợ giúp

Funa Scientific Instruments (Shanghai) Co., Ltd
Nhà sản xuất tùy chỉnh

Sản phẩm chính:

instrumentb2b>Tải về tài liệu>Công nghệ lắng đọng lớp nguyên tử bột (PALD) và phát triển vắc-xin dạng hít
Tải xuống

Funa Scientific Instruments (Shanghai) Co., Ltd

  • Thông tin E-mail

    info@phenom-china.com

  • Điện thoại

    18516656178

  • Địa chỉ

    Phòng T5, 705, Shanghai Hongqiao Libao Plaza, 88 Shenbin Road, Hongqiao Town, Quận Minhang, Thượng Hải

Liên hệ bây giờ
Công nghệ lắng đọng lớp nguyên tử bột (PALD) và phát triển vắc-xin dạng hít
Ngày:2021-12-06Đọc:0

BộtCông nghệ ALD (PALD)

Lớp phủ có hiệu quả ngăn ngừa các thành phần hoạt tính của vắc-xin bị ảnh hưởng bởi các yếu tố môi trường trong khi đạt được chức năng giải phóng kéo dài, kéo dài thời gian hiệu quả của vắc-xin. Có nhiều cách để chuẩn bị lớp phủ, nhưng kỹ thuật lắng đọng lớp nguyên tử bột (viết tắt là Powder Atomic Layer Deposition)PALD là một công nghệ phủ nano được kiểm soát chính xác, được sử dụng rộng rãi trong những năm gần đây trong các ứng dụng sửa đổi giao diện của các nguồn năng lượng mới, xúc tác và bột kim loại, nhưng hiếm khi được sử dụng trong nghiên cứu bột dược phẩm.